[发明专利]成套设备控制装置、方法、记录介质、以及轧制控制装置在审
申请号: | 201710478292.3 | 申请日: | 2017-06-22 |
公开(公告)号: | CN107552575A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 服部哲 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | B21B37/18 | 分类号: | B21B37/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 孙蕾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及成套设备控制装置、方法、记录介质以及轧制控制装置。根据控制前状态量和控制后状态量的变动的频率特性高效求出对前馈控制有效果的控制定时偏移量。控制增益及定时偏移量设定装置(102)根据对控制前状态量(入侧板厚偏差(ΔHTRK))以及控制后状态量(出侧板厚偏差(Δh))的时间序列数据进行快速傅里叶变换而得到的结果,通过频率响应测定装置(201)取得控制后状态量相对于控制前状态量的相位差以及衰减量。进一步,经由隶属函数(105~107)、模糊推理装置(108)、参数变更装置(109),计算直至使控制前状态量反映到前馈控制为止的控制输出定时偏移量(ΔTFF)及前馈控制用的控制增益(GFF)。 | ||
搜索关键词: | 成套设备 控制 装置 方法 记录 介质 以及 轧制 | ||
【主权项】:
一种成套设备控制装置,根据控制前状态量对控制后状态量进行前馈控制,所述控制前状态量是对被加工物进行加工处理时的控制前的控制状态量,所述控制后状态量是对被加工物进行加工处理时的控制后的控制状态量,所述成套设备控制装置的特征在于,具有:频率响应测定单元,根据对所述控制前状态量以及所述控制后状态量各自的时间序列数据进行快速傅里叶变换而得到的结果,取得所述控制后状态量相对于所述控制前状态量的相位差以及衰减量;以及前馈控制参数调整单元,根据所取得的所述相位差以及衰减量,确定控制输出定时偏移量,所述控制输出定时偏移量是直至使所述控制前状态量反映到所述前馈控制为止的延迟时间。
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