[发明专利]P型IBC电池结构及其制作方法在审
申请号: | 201710463920.0 | 申请日: | 2017-06-19 |
公开(公告)号: | CN107293606A | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 郑霈霆;张范;张昕宇;金浩;许佳平;孙海杰;郭瑶 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本申请提供一种P型IBC电池结构及其制作方法,在P型IBC电池制作过程中,使用P型单晶硅衬底,直接形成N+掺杂层,而在电极制作过程中,烧结形成金属电极时,同时形成P+层,无需现有技术中制作N型IBC电池过程中的B扩散工艺,避免了多次掩膜及清洗等工序,大大降低了IBC电池工艺流程的复杂度,可以兼容传统晶体硅生产线,制备工艺简单,相对投资成本低,具有极大的市场竞争力。 | ||
搜索关键词: | ibc 电池 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种P型IBC电池结构的制作方法,其特征在于,包括:提供P型单晶硅衬底;在所述P型单晶硅衬底的正面制绒;在所述P型单晶硅衬底的背面形成N+掺杂层;在所述P型单晶硅衬底的正面蒸镀减反膜;在所述P型单晶硅衬底的背面蒸镀钝化层;在所述P型单晶硅衬底的背面制作电极开口;在所述电极开口处制作金属电极,烧结形成P+层和金属电极。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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