[发明专利]一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具有效

专利信息
申请号: 201710462556.6 申请日: 2017-06-19
公开(公告)号: CN107119254B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 李东滨;吴疆;秦正春;王德苗;金浩;冯斌 申请(专利权)人: 杭州比凡科电子科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 310024 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具,包括上掩膜板、样品定位板和下掩膜板;上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔;下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔;下掩膜开孔与定位槽连通;弹性片和掩膜片顺次设于定位槽内;样品定位板上设有样品固定孔、第三紧固孔;样品固定孔设于对应的上掩膜开孔下方,且设于对应的定位槽的上方;第三紧固孔与上掩膜板上对应的第一紧固孔和下掩膜板上对应的第二紧固孔同轴设置。本发明能实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴,以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分,从而提高镀膜产品的品质。
搜索关键词: 一种 用于 双面 沉积 镀膜 夹具
【主权项】:
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