[发明专利]一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具

说明书

本发明公开了一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；下掩膜开孔与定位槽连通；弹性片和掩膜片顺次设于定位槽内；样品定位板上设有样品固定孔、第三紧固孔；样品固定孔设于对应的上掩膜开孔下方，且设于对应的定位槽的上方；第三紧固孔与上掩膜板上对应的第一紧固孔和下掩膜板上对应的第二紧固孔同轴设置。本发明能实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴，以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。

技术领域

本发明具体涉及一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具。

背景技术

气相沉积技术包括物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，对于要求产生特殊形状的镀膜膜层时一般采用掩膜工艺。常规的掩膜夹具大多由上下两层组成，但由于镀膜样品膜厚往往不一样，从而经常会出现样品无法夹紧的情况。在对样品表面要求镀膜和非镀膜边缘清晰的情况下，上下两层组成的掩膜夹具存在一定的使用局限性。为了解决样品厚度差异导致密封不严的问题，公告号为CN204125521U的中国实用新型专利和公开号为CN105908124A的中国发明专利各自提出了用于克服以上问题的气相沉积工艺的掩膜夹具，但是以上两种结构都不能实现样品在同一周期的双面镀膜，尤其是对于对膜层应力敏感的样品存在致命的缺陷。

发明内容

针对上述问题，本发明提出一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，可以低成本地实现所有样品的上下两个需镀膜表面分别与上掩膜板的上掩膜开孔边缘和掩膜片上第二通孔的边缘紧贴，以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分，从而提高镀膜产品的品质。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：

一种用于气相双面沉积镀膜的掩膜夹具，包括从上至下顺次设置的上掩膜板、样品定位板和下掩膜板；

所述上掩膜板上设有上掩膜开孔、第一紧固孔；

所述下掩膜板上设有下掩膜开孔、定位槽、弹性片、掩膜片和第二紧固孔；所述下掩膜开孔与定位槽连通，位于定位槽的下方，且与定位槽同轴设置；所述弹性片和掩膜片从下至上顺次设于定位槽内，二者的外侧壁紧贴定位槽的内侧壁；

所述样品定位板上设有样品固定孔、第三紧固孔；所述样品固定孔设于上掩膜板上对应的上掩膜开孔下方，同时位于下掩膜板上对应的定位槽的上方，三者同轴设置，所述样品固定孔的横截面尺寸大于对应上掩膜开孔的横截面尺寸，且小于对应下掩膜上定位槽的横截面尺寸；所述第三紧固孔与上掩膜板上对应的第一紧固孔和下掩膜板上对应的第二紧固孔同轴设置，且三者的横截面尺寸相同。

进一步地，所述弹性片和掩膜片上分别设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔横截面尺寸大于或者等于第二通孔的横截面尺寸；所述第二通孔的横截面形状与样品下镀膜面所需的镀膜形状相同。

进一步地，所述第二通孔的横截面尺寸小于或者等于下掩膜开孔的横截面尺寸。

进一步地，所述弹性片为波浪形结构。

进一步地，所述上掩膜开孔的横截面形状与样品上镀膜面所需的镀膜形状相同。

进一步地，所述上掩膜开孔、第一通孔和第二通孔均为圆形。

进一步地，所述样品固定孔为圆柱形孔，用于定位样品。

进一步地，所述掩膜片的顶壁与样品固定孔的底壁处于同一平面。

进一步地，所述样品定位板和下掩膜板上还分别设有第四紧固孔和第五紧固孔，所述第四紧固孔和第五紧固孔同轴设置，且二者的横截面尺寸相同。