[发明专利]一种用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制备方法有效
申请号: | 201710458313.5 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107271415B | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 钟源;李劲劲;张玲;王晶;钟青;王雪深;傅博强;王兰若 | 申请(专利权)人: | 中国计量科学研究院 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 11257 北京正理专利代理有限公司 | 代理人: | 付生辉<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 100013 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种用于荧光仪器校准测量的标准样片,包括基板及荧光薄膜,该荧光薄膜设置于基板上且包括具有不同荧光强度的多个荧光强度区域,每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。本发明还公开一种用于荧光仪器校准测量的标准样片的制备方法。本发明的用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制作方法,通过利用微纳加工技术,精确控制调整荧光薄膜表面上每个像素对应区域内的荧光染料填充占空比,在一个标准样片上获得多个厚度相同的荧光强度区域,且每个荧光强度区域具有精准可控的特定的荧光染料填充占空比,使获得复杂图案的小尺度图形成为可能。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 荧光 仪器 校准 测量 标准 样片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于荧光仪器校准测量的标准样片,包括/n基板;及/n设置于所述基板上且具有不同荧光强度的多个荧光强度区域的荧光薄膜,其中所述多个荧光强度区域为通过对由荧光材料和光敏高分子材料组成的荧光薄膜进行图案化形成;/n其特征在于,所述多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。/n
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