[发明专利]一种用于荧光仪器校准测量的标准样片及其制备方法

权利要求书

1.一种用于荧光仪器校准测量的标准样片，包括

基板；及

设置于所述基板上且具有不同荧光强度的多个荧光强度区域的荧光薄膜，其中所述多个荧光强度区域为通过对由荧光材料和光敏高分子材料组成的荧光薄膜进行图案化形成；

其特征在于，所述多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。

2.根据权利要求1所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，基于微纳加工技术获得所述特定的荧光染料填充占空比。

3.根据权利要求1所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述荧光强度区域包括多个与像素对应的重复单元，同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。

4.根据权利要求3所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述重复单元尺寸小于或等于所述像素尺寸。

5.根据权利要求4所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述像素为人眼像素或CCD像素。

6.根据权利要求3所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，采用光刻、纳米压印或电子束曝光获得所述重复单元。

7.根据权利要求6所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，光刻时，与所述重复单元对应的光刻板中透光或不透光部分的占空比与所述重复单元的荧光染料填充占空比相同。

8.根据权利要求7所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，光刻胶为混有荧光材料的光敏高分子材料。

9.根据权利要求1所述的用于荧光仪器校准测量的标准样片，其特征在于，所述标准样片表面涂覆有保护层。

10.一种用于荧光仪器校准测量的标准样片的制备方法，其特征在于，包括：

制备基板；

在所述基板上制作荧光薄膜，具体包括：

在所述荧光薄膜上形成具有不同荧光强度的多个荧光强度区域；

基于微纳加工技术在每个荧光强度区域上形成多个与像素对应的重复单元，使同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。