[发明专利]一种溅射用高纯度无氧铜管靶材制备工艺在审

专利信息
申请号: 201710442224.1 申请日: 2017-06-13
公开(公告)号: CN107267937A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 卢燕;游金阁;肖赛竹;杨海丽;苏东东;朱迎利;王峰;施积海;赵向东;张健;张宏涛 申请(专利权)人: 中铝洛阳铜加工有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司11401 代理人: 王滨生
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种溅射用高纯度无氧铜管靶材制备工艺,主要用于IC行业领域,该产品开发成功,为发展本国经济及技术,采用国产材料替代进口意义重大,采取预热—熔炼—铸造—加热—挤压—一次拉伸—退火—二次拉伸—光亮退火—精整—检查力学性能—入库的工艺步骤,实现纯度99.99%以上,杂质0.0003%P、0.0002%Mn以下,低氧超低杂质高纯无氧铜制备,其纯度高于国标TU1材料,纯度99.97%以上,达到美国标准C10100标准,纯度99.99%以上;加工工艺研究,采用合适的挤压工艺,合适的加工率,再结晶退火等措施,使材料的内部组织均匀,晶粒度≤0.080mm。
搜索关键词: 一种 溅射 纯度 铜管 制备 工艺
【主权项】:
一种溅射用高纯度无氧铜管靶材制备工艺,其特征在于:预热—熔炼—铸造—加热—挤压—一次拉伸—退火—二次拉伸—光亮退火—精整—检查力学性能—入库。
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