[发明专利]一种掩膜板、基板以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201710392813.3 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN106997147A 公开(公告)日: 2017-08-01
发明(设计)人: 胡小弢;毕瑞琳;黎敏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/82 分类号: G03F1/82;G03F1/78;G03F1/74
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示装置制备技术领域,公开了一种掩膜板、基板以及显示装置,该掩膜板用于显示装置制备,包括平板,平板上设有与显示装置的像素单元一一对应的多个开口;其中,每个开口的角落中,每相邻的两个边之间圆滑过渡。使用上述掩膜板配合高解析度曝光机进行构图时,可以较清晰、确切的还原掩膜板的图案,且得到的图案的开口区域的角落处两个相邻边之间圆滑过渡,不容易聚集电荷,有利于残留的带电粒子的清洗,进而对利用本发明提供的掩膜板制备的显示装置有改善残像的效果。
搜索关键词: 一种 掩膜板 以及 显示装置
【主权项】:
一种掩膜板,用于显示装置制备,其特征在于,包括平板,所述平板上设有与显示装置的像素单元一一对应的多个开口;其中,每个所述开口的角落中,每相邻的两个边之间圆滑过渡。
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