[发明专利]TFT阵列基板结构有效

专利信息
申请号: 201710370162.8 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN107204344B 公开(公告)日: 2020-05-29
发明(设计)人: 磨光阳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种TFT阵列基板结构,在钝化绝缘层(8)上设置第一通孔(V1),在钝化绝缘层(8)与栅极绝缘层(3)上设置第二通孔(V2),且所述第一通孔(V1)与第二通孔(V2)沿横向间隔设置,在所述第一通孔(V1)内、第二通孔(V2)内、及第一通孔(V1)与第二通孔(V2)之间沉积用于连接第三漏极(D3)与公共电压线(Com)的导电薄膜(9),能够避免倒角问题,防范导电薄膜发生断裂及接触不良的风险,使放电TFT与公共电压线之间的连接可靠,提升TFT阵列基板的良率及其信赖性。
搜索关键词: tft 阵列 板结
【主权项】:
一种TFT阵列基板结构,其特征在于,包括自下至上依次层叠设置的第一金属层、栅极绝缘层(3)、半导体有源层(5)、第二金属层、及钝化绝缘层(8);所述TFT阵列基板结构具有多个呈阵列式排布的像素区域,在纵向相邻的两像素区域内,所述第一金属层包括沿横向延伸的公共电压线(Com)、及栅极线(G),所述第二金属层包括沿纵向延伸的数据线(D)、与所述数据线(D)连接的第一源极(S1)、与所述数据线(D)连接的第二源极(S2)、与所述第一源极(S1)相对设置的第一漏极(D1)、与所述第二源极(S2)相对设置的第二漏极(D2)、与所述第二漏极(D2)连接的第三源极(S3)、及与所述第三源极(S3)相对设置的第三漏极(D3);所述钝化绝缘层(8)覆盖第二金属层、半导体有源层(5)、与栅极绝缘层(3);所述钝化绝缘层(8)上设有贯穿该钝化绝缘层(8)的第一通孔(V1),所述第一通孔(V1)暴露出第三漏极(D3)的部分表面;所述钝化绝缘层(8)与栅极绝缘层(3)上设有贯穿该钝化绝缘层(8)与栅极绝缘层(3)的第二通孔(V2),所述第二通孔(V2)暴露出公共电压线(Com)的部分表面;所述第一通孔(V1)与第二通孔(V2)沿横向间隔设置;所述第一通孔(V1)内、第二通孔(V2)内、及第一通孔(V1)与第二通孔(V2)之间沉积有用于连接第三漏极(D3)与公共电压线(Com)的导电薄膜(9)。
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