[发明专利]配线电路基板及其制造方法有效
申请号: | 201710351981.8 | 申请日: | 2017-05-18 |
公开(公告)号: | CN107404800B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 山内大辅;田边浩之 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种配线电路基板及其制造方法。在支承基板上形成有第1绝缘层。第1绝缘层包括第1部分和第2部分。第2部分具有比第1部分的厚度小的厚度。在第1绝缘层的第2部分上形成有具有比支承基板的导电率高的导电率的接地层。接地层与支承基板电连接。以覆盖接地层的方式在第1绝缘层上形成有第2绝缘层。以与第1绝缘层的第1部分和第2部分重叠的方式在第2绝缘层上形成有写入用配线图案。 | ||
搜索关键词: | 配线电 路基 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种配线电路基板,其具备:支承基板,其由导电性材料形成;第1绝缘层,其形成于所述支承基板上,包括具有第1厚度的第1部分和具有比所述第1厚度小的第2厚度的第2部分;接地层,其以与所述支承基板电连接的方式形成于所述第1绝缘层的所述第2部分,具有比所述支承基板的导电率高的导电率;第2绝缘层,其以覆盖所述接地层的方式形成于所述第1绝缘层上;上部配线图案,其以与所述第1绝缘层的所述第1部分和所述第2部分重叠的方式形成于所述第2绝缘层上。
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