[发明专利]一种Klopfenstein阻抗过渡扩展同轴功率分配/合成器有效

专利信息
申请号: 201710334761.4 申请日: 2017-05-12
公开(公告)号: CN106997982B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 蒲友雷;孙健健;吴泽威;蒋伟;王建勋;罗勇 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01P5/12 分类号: H01P5/12
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 张杨
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种Klopfenstein阻抗过渡扩展同轴功率分配/合成器,属于微波技术领域。该结构包括:50欧姆标准同轴波导、同轴波导到扩展同轴波导过渡结构、扩展同轴波导段、λ/4长阻抗匹配段和沿径向呈辐射状分布的50欧姆标准同轴波导阵列。本发明基于Klopfenstein阻抗变化的同轴波导到扩展同轴波导过渡结构,实现同轴波导到扩展同轴波导的最佳匹配,大大提高整个功率分配合成器的工作带宽;并且该结构具有很低的插入损耗、良好的散热性能、紧凑的结构,输入输出均采用50欧姆标准同轴波导接口,便于微波毫米波系统应用。
搜索关键词: 一种 klopfenstein 阻抗 过渡 扩展 同轴 功率 分配 合成器
【主权项】:
1.一种Klopfenstein阻抗过渡扩展同轴功率分配/合成器,包括:50欧姆标准同轴波导、同轴波导到扩展同轴波导过渡结构、扩展同轴波导段、λ/4长阻抗匹配段和沿径向呈辐射状均匀分布的50欧姆标准同轴波导阵列;所述50欧姆标准同轴波导一端与同轴波导到扩展同轴波导过渡结构连接,另一端与标准SMA接头连接;所述同轴波导到扩展同轴波导过渡结构为Klopfenstein阻抗渐变结构,其另一端与扩展同轴波导段连接,其阻抗变化满足Klopfenstein渐变特性阻抗关系,以实现同轴波导到扩展同轴波导的宽带匹配;所述扩展同轴波导段末端与λ/4阻抗匹配段连接,λ/4阻抗匹配段为N路同轴波导口提供电路等效上的开路;所述50欧姆标准同轴波导阵列沿径向均匀分布于扩展同轴波导段周围,同时扩展同轴波导段内导体通过金属圆柱与50欧姆标准同轴波导阵列内导体连接,金属圆柱半径大于同轴波导阵列内导体且轴线重合;所述Klopfenstein阻抗渐变结构的特性阻抗变化的自然对数为:其中Z0和ZL分别为输入输出端特性阻抗,函数Γ0为:函数A为:其中,L为同轴波导到扩展同轴波导过渡结构的长度,λm为最大波导波长;函数φ(x,A)定义为:其中I1(x)是修正贝塞尔函数;同轴波导到扩展同轴波导过渡段外导体半径遵循方程:式中,b1为同轴波导外导体半径,b2为扩展同轴波导外导体半径,由同轴波导特性阻抗公式可以确定Klopfenstein过渡段内导体半径满足方程:式中,ξr为同轴线内填充介质的相对介电常数,由Z0为50欧姆和ZL为50/N欧姆(N为功率分配/合成路数),结合上面的公式可以确定过渡段内导体曲线a(z)。
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