[发明专利]一种石英舟清洗饱和工艺在审
申请号: | 201710259490.0 | 申请日: | 2017-04-20 |
公开(公告)号: | CN107123613A | 公开(公告)日: | 2017-09-01 |
发明(设计)人: | 钱忠刚;郑傲然;詹杰于;伟涛 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(合肥)有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;B08B3/12;B08B3/08 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所53113 | 代理人: | 张玺 |
地址: | 230088 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及太阳能电池板制造技术领域,尤其为一种石英舟清洗饱和工艺,包括以下步骤1)在石英舟清洗槽内加入配比为31(5‑15)的HF、HCL和纯水的混合物;2)将石英舟放入清洗槽内浸泡清洗;3)采用气体对清洗后的石英舟进行吹干处理;4)将石英舟放入炉管中通过流量稳定的4.5‑5.5slm的N2、1450‑1550sccm的POCL3和350‑400sccmO2进行沉积反应,反应时间为115min‑125min,反应温度为865℃‑875℃;5)沉积结束后,停止POCL3的通入,将N2的流量控制在8.8‑9.2slm,O2的流量控制在950‑1050sccm进行推进处理,处理时间为4.5min‑5.5min,温度控制在870‑880℃;6)推进结束后停止O2的通入,将N2的流量控制在27‑33slm处理时间为2.5min‑3.5min,温度控制在825‑835℃。改变石英舟酸洗配比,减少石英舟在炉管内通POCL3沉积时间,从而提升产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 石英 清洗 饱和 工艺 | ||
【主权项】:
一种石英舟清洗饱和工艺,其特征在于,包括以下步骤:1)在石英舟清洗槽内加入配比为3:1:(5‑15)的HF、HCL和纯水的混合物;2)将石英舟放入清洗槽内浸泡清洗15min‑50min,此过程中用频率为40HZ的超声波进行辅助清洗;3)采用气体对清洗后的石英舟进行吹干处理;4)将石英舟放入炉管中通过流量稳定的4.5‑5.5slm的N2、1450‑1550sccm的POCL3和350‑400sccmO2进行沉积反应,反应时间为115min‑125min,反应温度为865℃‑875℃;5)沉积结束后,停止POCL3的通入,将N2的流量控制在8.8‑9.2slm,O2的流量控制在950‑1050sccm进行推进处理,处理时间为4.5min‑5.5min,温度控制在870‑880℃;6)推进结束后停止O2的通入,将N2的流量控制在27‑33slm,进行冷却,冷却时间为2.5min‑3.5min,温度控制在825‑835℃。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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