[发明专利]一种石英舟清洗饱和工艺

说明书

技术领域

本发明涉及太阳能电池板制造技术领域，具体为一种石英舟清洗饱和工艺。

背景技术

太阳能电池板扩散用石英舟在使用一段时间后会变脏，容易造成电池板卡槽印、崩边等不良，因此需要对石英舟进行定期清洗。新清洗的石英舟在使用前需进行饱和处理，目的是保证正常生产时，不会造成硅片外观和方阻异常。

之前石英舟清洗饱和工艺流程存在以下问题，饱和时间长，影响产能；清洗饱和过的石英舟外观效果差，舟尾清洗不干净；POCL₃、O₂、N₂用量较多；故需要对石英舟清洗饱和流程进行优化，来改善清洗效果、降低运营成本及提升产能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种石英舟清洗饱和工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。所述石英舟清洗饱和工艺具有减少饱和时间，节约气体用量的特点。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种石英舟清洗饱和工艺，包括以下步骤：

1)在石英舟清洗槽内加入配比为3：1：(5-15)的HF、HCL和纯水的混合物；

2)将石英舟放入清洗槽内浸泡清洗15min-50min，此过程中用频率为40HZ的超声波进行辅助清洗；

3)采用气体对清洗后的石英舟进行吹干处理；

4)将石英舟放入炉管中通过流量稳定的4.5-5.5slm的N₂、1450-1550sccm的POCL₃和350-400sccmO₂进行沉积反应，反应时间为115min-125min，反应温度为865℃-875℃；

5)沉积结束后，停止POCL₃的通入，将N₂的流量控制在8.8-9.2slm，O₂的流量控制在950-1050sccm进行推进处理，处理时间为4.5min-5.5min，温度控制在870-880℃；

6)推进结束后停止O₂的通入，将N₂的流量控制在27-33slm，进行冷却，冷却时间为2.5min-3.5min，温度控制在825-835℃。

优选的，4)中炉管中通过流量稳定的5slm的N₂、1500sccm的POCL₃和375sccmO₂进行沉积反应，反应时间为120min，反应温度为870℃。

优选的，5)中将N₂的流量控制在9slm，O₂的流量控制在1000sccm进行推进处理，处理时间为5min，温度控制在875℃。

优选的，6)中将N₂的流量控制在30slm冷却时间为3min，温度控制在830℃。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：优化改变石英舟酸洗配比，减少石英舟在炉管内通POCL₃沉积时间，从而提升产能；气体流量未变，饱和时间减少，从而减少气体用量；而且石英舟清洗饱和后效果良好，硅片扩散后无外观不良，卡槽和舟尾均被清洗干净。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供几种技术方案：

实施例1

1)在石英舟清洗槽内加入配比为3：1：7.5的HF、HCL和纯水的混合物；

2)将石英舟放入清洗槽内浸泡清洗30min，此过程中用频率为40HZ的超声波进行辅助清洗；

3)采用气体对清洗后的石英舟进行吹干处理；

4)将石英舟放入炉管中通过流量稳定的5slm的N₂、1500sccm的POCL₃和375sccmO₂进行沉积反应，反应时间为120min，反应温度为870℃；

5)沉积结束后，停止POCL₃的通入，将N₂的流量控制在9slm，O₂的流量控制在1000sccm进行推进处理，处理时间为5min，温度控制在875℃；