[发明专利]基于阻挡层调制结构的电流孔径功率晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710197643.3 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN107146811B 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 毛维;石朋毫;王海永;郝跃;艾治州;马晓华;张弘 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/20;H01L29/778;H01L21/335
代理公司: 61205 陕西电子工业专利中心 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于阻挡层调制结构的电流孔径功率晶体管,主要解决现有同类器击穿电压低与导通电阻大的问题,其包括:衬底(1)、漂移层(2)、电流孔径层(3)、左右两个对称的多级阶梯结构的电流阻挡层(4)、沟道层(6)、势垒层(7)和钝化层(12),势垒层(7)上的两侧淀积有两个源极(9),两个源极(9)下方通过离子注入形成两个注入区(8),两个源极(9)之间的势垒层(7)上淀积有栅极(10),衬底(1)下面淀积有漏极(11),钝化层(12)完全包裹除在漏极底部以外所有区域,两个对称电流阻挡层(4)之间形成孔径(5)。本发明击穿电压高、工艺简单、导通电阻小、成品率高,可用于电力电子系统。
搜索关键词: 基于 阻挡 调制 结构 电流 孔径 功率 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种基于阻挡层调制结构的电流孔径功率晶体管,包括:衬底(1)、漂移层(2)、电流孔径层(3)、两个对称的电流阻挡层(4)、沟道层(6)、势垒层(7)和钝化层(12),势垒层(7)上淀积有栅极(10),势垒层(7)上的两侧淀积有两个源极(9),每个源极的下方设有注入区(8),衬底(1)下面淀积有漏极(11),两个对称的电流阻挡层(4)之间形成孔径(5),钝化层(12)完全包裹在除漏极底部以外的所有区域外面,其特征在于:/n所述电流孔径层(3),是由自下而上的第一孔径层(31)至第m孔径层(3m)所构成的多层结构;/n所述电流阻挡层(4),是由自下而上的第一阻挡层(41)至第m阻挡层(4m)所构成的m级阶梯结构,且第一阻挡层(41)的厚度与第一孔径层(31)的厚度相同,第二阻挡层(42)的厚度与第二孔径层(32)的厚度相同,第m阻挡层(4m)的厚度与第m孔径层(3m)的厚度相同。/n
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