[发明专利]可变电阻存储器件和存储结构在审
申请号: | 201710196690.6 | 申请日: | 2017-03-29 |
公开(公告)号: | CN107275357A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 李镇宇;朴淳五;朴正熙;堀井秀树 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 张波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及可变电阻存储器件和存储结构。一种可变电阻存储器件包括一条或更多条第一导电线的图案、一条或更多条第二导电线的图案和第一与第二导电线之间的存储结构。第一导电线的图案在衬底上在第一方向上展开,第一导电线在交叉第一方向的第二方向上延伸。第二导电线的图案在第一导电线上在第二方向上展开,第二导电线在第一方向上延伸。存储结构垂直地重叠第一导电线和第二导电线。存储结构包括电极结构、在电极结构的中心上表面上的绝缘图案和在电极结构的边缘上表面上的可变电阻图案。可变电阻图案至少部分地覆盖绝缘图案的侧壁。 | ||
搜索关键词: | 可变 电阻 存储 器件 结构 | ||
【主权项】:
一种可变电阻存储器件,包括:在衬底上在第一方向上排列的多个第一导电线,所述第一导电线中的每条在与所述第一方向基本正交的第二方向上延伸,所述第一方向和第二方向基本平行于所述衬底的上表面;在所述多个第一导电线上在所述第二方向上排列的多个第二导电线,所述第二导电线中的每条在所述第一方向上延伸;以及在所述多个第一导电线与所述多个第二导电线之间的多个存储结构,所述多个存储结构中的每个垂直地重叠所述多个第一导电线之一和所述多个第二导电线之一,所述多个存储结构中的每个在与所述第一方向和所述第二方向基本正交的第三方向上延伸,所述第三方向与所述衬底的所述上表面基本正交,所述多个存储结构中的每个包括:电极结构;在所述电极结构的中心上表面上的绝缘图案;以及在所述电极结构的边缘上表面上的可变电阻图案,所述可变电阻图案至少部分地覆盖所述绝缘图案的侧壁。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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