[发明专利]一种循环卷绕式原子层沉积设备

摘要

本发明公开了一种循环卷绕式原子层沉积设备，包括：沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置；反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头；动力装置包括伺服电机和驱动辊筒，伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴；导向装置包括若干个无动力辊筒；驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径，用于使待沉积样品循环运动；纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间，且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧。本设备结构简单，便于使用和维护；待沉积样品能够循环运动，能够连续反应，不需要反复收放卷，不用频换启动与停止，提高反应效率。

主权项

1.一种循环卷绕式原子层沉积设备，其特征在于，包括：沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置；反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头，用于先在两侧加热板之间对待沉积样品加热，再在反应喷头处进行原子层沉积反应；反应喷头包括：若干个进气口、位于反应喷头底部的九个出气口，以及设置在每两个相邻的出气口之间的排气口；进气口连接出气口；九个出气口依次分别向待沉积样品表面提供氮气、三甲基铝(TMA)、氮气、水蒸汽、氮气、三甲基铝(TMA)、氮气、水蒸汽和氮气；其中，三甲基铝(TMA)和水蒸汽是反应气体，氮气用于使反应气体与反应气体之间、反应气体与空气之间相互隔离，同时带走反应的中间产物；动力装置包括伺服电机和驱动辊筒，伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴，驱动辊筒用于紧贴待沉积样品从而带动待沉积样品运动；导向装置包括若干个无动力辊筒，用于对待沉积样品的运动进行导向；驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径，用于使待沉积样品循环运动；纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间，且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧，用于防止待沉积样品在循环运动过程中出现偏移。