[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板在审
申请号: | 201710178360.4 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN106647014A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 霍培荣;方业周;孙世成;徐敬义 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 汪源,陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板,该彩膜基板包括衬底基板和位于衬底基板上的遮光图形,遮光图形中设置有挖槽,挖槽将遮光图形划分为外侧遮光子图形和内侧遮光子图形,外侧遮光子图形与彩膜基板的周边区域对应,内侧遮光子图形与彩膜基板的显示区域对应设置;在挖槽内的至少部分区域设置有导电图形,导电图形的电阻率小于遮光图形的电阻率,导电图形与内侧遮光子图形和/或外侧遮光子图形连接,导电图形接地。通过在遮光图形中设置挖槽,在挖槽内形成与外侧遮光子图形和/或内侧遮光子图形连接的导电图形,可有效解决遮光图形位于显示区域的部分出现静电积累过多的问题。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板,其特征在于,包括:衬底基板和位于所述衬底基板上的遮光图形,所述遮光图形中设置有挖槽,所述挖槽将所述遮光图形划分为外侧遮光子图形和内侧遮光子图形,所述外侧遮光子图形与所述彩膜基板的周边区域对应,所述内侧遮光子图形与所述彩膜基板的显示区域对应设置;在所述挖槽内的至少部分区域设置有导电图形,所述导电图形的电阻率小于遮光图形的电阻率,所述导电图形与所述内侧遮光子图形和/或外侧遮光子图形连接,所述导电图形接地。
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