[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 201710178360.4 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN106647014A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 霍培荣;方业周;孙世成;徐敬义 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 汪源,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板,该彩膜基板包括衬底基板和位于衬底基板上的遮光图形,遮光图形中设置有挖槽,挖槽将遮光图形划分为外侧遮光子图形和内侧遮光子图形,外侧遮光子图形与彩膜基板的周边区域对应,内侧遮光子图形与彩膜基板的显示区域对应设置;在挖槽内的至少部分区域设置有导电图形,导电图形的电阻率小于遮光图形的电阻率,导电图形与内侧遮光子图形和/或外侧遮光子图形连接,导电图形接地。通过在遮光图形中设置挖槽,在挖槽内形成与外侧遮光子图形和/或内侧遮光子图形连接的导电图形,可有效解决遮光图形位于显示区域的部分出现静电积累过多的问题。
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
一种彩膜基板,其特征在于,包括:衬底基板和位于所述衬底基板上的遮光图形,所述遮光图形中设置有挖槽,所述挖槽将所述遮光图形划分为外侧遮光子图形和内侧遮光子图形,所述外侧遮光子图形与所述彩膜基板的周边区域对应,所述内侧遮光子图形与所述彩膜基板的显示区域对应设置;在所述挖槽内的至少部分区域设置有导电图形,所述导电图形的电阻率小于遮光图形的电阻率,所述导电图形与所述内侧遮光子图形和/或外侧遮光子图形连接,所述导电图形接地。
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