[发明专利]氧化锌基底诱导取向生长硒化锑薄膜的方法有效
申请号: | 201710176171.3 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN106910797B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 唐江;李康华;牛广达;王亮;李登兵;陈超;赵洋 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;H01L21/02 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心42201 | 代理人: | 许恒恒,李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种氧化锌基底诱导取向生长的硒化锑薄膜的方法,其特征在于,该方法是以特定取向的氧化锌基底诱导生长具有择优取向方向的硒化锑薄膜;当氧化锌基底为(100)取向时,诱导生长出的硒化锑薄膜是以<221>方向为主导生长取向;当氧化锌基底为(002)取向时,诱导生长出的硒化锑薄膜是以<120>方向为主导生长取向。本发明中的方法可应用于硒化锑薄膜太阳能电池的制备,得到相应的硒化锑薄膜太阳能电池。本发明通过对硒化锑薄膜制备工艺中关键的基底种类及其内部结构等进行改进,与现有技术相比,能够对生长的硒化锑薄膜其取向灵活调整,同时不依赖于硒化锑的沉积的基底温度。 | ||
搜索关键词: | 氧化锌 基底 诱导 取向 生长 硒化锑 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
一种氧化锌基底诱导取向生长的硒化锑薄膜的方法,其特征在于,该方法是以特定取向的氧化锌基底诱导生长具有择优取向方向的硒化锑薄膜;所述特定取向的氧化锌基底为(100)取向的氧化锌基底、或(002)取向的氧化锌基底;当所述特定取向的氧化锌基底为(100)取向的氧化锌基底时,诱导生长出的所述具有择优取向方向的硒化锑薄膜是以<221>方向为主导生长取向;当所述特定取向的氧化锌基底为(002)取向的氧化锌基底时,诱导生长出的所述具有择优取向方向的硒化锑薄膜是以<120>方向为主导生长取向;所述(100)取向的氧化锌基底,其X射线衍射曲线中,ZnO(100)对应的衍射峰最高强度不小于ZnO(002)对应的衍射峰最高强度的60%;所述(002)取向的氧化锌基底,其X射线衍射曲线中,ZnO(002)对应的衍射峰强度最高,且ZnO(100)对应的衍射峰最高强度不大于ZnO(002)对应的衍射峰最高强度的8%。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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