[发明专利]一种化学机械研磨设备

摘要

本发明属于半导体机械研磨设备技术领域，尤其是一种化学机械研磨设备，针对现有研磨液供应管的研磨液供应位置比较单一，单靠转台旋转的离心力不能够确保研磨头下方的研磨垫上的研磨液能够均匀分布，而研磨液的分布不均匀将直接影响到研磨头的研磨效果，导致衬底研磨结果的不均匀等缺点，现提出如下方案，一种化学机械研磨设备，包括支撑底座，所述支撑底座呈中空结构，支撑底座的内腔通过支架固定有第一驱动装置，第一驱动装置的输出轴穿过支撑底座的上侧侧壁与转盘通过法兰盘连接，转盘的横截面呈圆形，竖截面呈矩形。该化学机械研磨设备其能够使得待研磨物件被研磨液充分浸透，进而使得其被均匀研磨，提高了均匀性和平整度。

主权项

一种化学机械研磨设备，包括支撑底座(4)，其特征在于：所述支撑底座(4)呈中空结构，支撑底座(4)的内腔通过支架固定有第一驱动装置(18)，第一驱动装置(18)的输出轴穿过支撑底座(4)的上侧侧壁与转盘(5)通过法兰盘连接，转盘(5)的横截面呈圆形，竖截面呈矩形，且转盘(5)的上侧焊接有第一转动轴(15)，第一转动轴(15)远离转盘(5)的一端通过法兰盘与研磨装置(14)连接，且转盘(5)的上侧焊接有圆筒(16)，圆筒(16)上靠近转盘(5)的一端侧壁上开有出液孔(19)，第一转动轴(15)和研磨装置(14)均位于圆筒(16)的内腔内；所述支撑底座(4)的一端上侧通过螺钉固定有第一立柱(6)，另一端上侧通过螺钉固定有第二立柱(2)，第一立柱(6)的侧壁上焊接有固定环(8)，固定环(8)内固定有研磨液存储罐(7)，研磨液存储罐(7)的出液端设置有蛇形放液管(9)，蛇形放液管(9)上设置有液体流量调节阀(10)，且蛇形放液管(9)的出液端伸至于圆筒(16)的进液端的正上方，第二立柱(2)的顶端焊接有横梁(1)，横梁(1)远离第二立柱(2)的一端通过螺钉固定有第二驱动装置(11)，第二驱动装置(11)的输出轴通过法兰盘与第二转动轴(12)的一端连接，第二转动轴(12)的另一端通过法兰盘与研磨头(13)连接，研磨头(13)位于研磨装置(14)的正上方，且待研磨物件(17)位于研磨头(13)和研磨装置(14)之间；所述研磨装置(14)包括限流装置(141)、底盘(142)、放液孔(143)和研磨垫(144)，其中研磨垫(144)贴附于底盘(142)的上侧，限流装置(141)焊接在竖截面呈等腰梯形的底盘(142)的外圈侧壁上，其中限流装置(141)的横截面呈圆环状，放液孔(143)开于限流装置(141)上。