[发明专利]一种石墨盘基座有效
申请号: | 201710132238.3 | 申请日: | 2017-03-07 |
公开(公告)号: | CN107058978B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 胡任浩;胡加辉;李鹏 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C30B25/12;H01L21/687 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省金华市义*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种石墨盘基座,属于光电子技术领域。该石墨盘基座包括基座本体和用于生长外延片的多个口袋,口袋包括一个第一口袋和多个第二口袋,第一口袋设置在基座本体的中心位置,第二口袋绕基座本体的中心位置周向分布,第一口袋的深度大于第二口袋的深度,第一口袋具有底面和环状侧壁,第一口袋的底面包括与第一口袋的环状侧壁相连的环形平面和位于第一口袋的底面的中部的曲面,通过使第一口袋的深度大于第二口袋的深度,使得在生长外延片的过程中,第一口袋中的外延片与盖板上的用于输送原材料的孔之间的距离增大,从而使原材料更容易在石墨盘基座中扩散,避免了原材料的聚集,从而可以减缓第一口袋中生长出的外延片厚度不均的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 基座 | ||
【主权项】:
1.一种石墨盘基座,所述石墨盘基座包括基座本体和用于生长外延片的多个口袋,所述口袋包括一个第一口袋和多个第二口袋,所述第一口袋设置在所述基座本体的中心位置,所述多个第二口袋绕所述基座本体的中心位置周向分布,其特征在于,所述第一口袋的深度大于所述多个第二口袋的深度,所述第一口袋具有相连接的底面和环状侧壁,所述第一口袋的底面包括与所述第一口袋的环状侧壁相连的环形平面和位于所述第一口袋的底面的中部的曲面,所述曲面的边缘与所述环形平面相连,所述曲面为球冠型的凹面,所述曲面的底部到所述环形平面的垂直距离为5μm~30μm,所述环形平面的内径为70~75mm,所述第一口袋的深度与所述第二口袋的深度的差值为0.03~0.07mm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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