[发明专利]离子注入装置及测量装置有效
| 申请号： | 201710127662.9 | 申请日： | 2017-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN107204272B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 石桥和久 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/244;G01B7/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于准确地测量离子束的角度重心的技术。角度测量装置(48)具备：狭缝(62)，供离子束入射，并且狭缝宽度方向是与朝向晶片的离子束的射束行进方向正交的方向；及多个电极体(64a～64g)，设置在射束行进方向上远离狭缝(62)的位置，并且各自具有射束测量面(65a～65g)，所述射束测量面为相对于通过狭缝(62)后的离子束暴露的区域。多个电极体(64a～64g)配置成各电极体的射束测量面在狭缝宽度方向上依次排列，并且在狭缝宽度方向上相邻的射束测量面在射束行进方向上错开。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 测量 | ||
【主权项】：
一种离子注入装置，其具备用于测量照射于晶片的离子束的角度分布的测量装置，其特征在于，所述测量装置具备：狭缝，供所述离子束入射，并且狭缝宽度方向是与朝向所述晶片的离子束的射束行进方向正交的方向；及多个电极体，设置在所述射束行进方向上远离所述狭缝的位置，并且各自具有射束测量面，所述射束测量面为相对于通过所述狭缝后的离子束暴露的区域，所述多个电极体配置成各电极体的射束测量面在所述狭缝宽度方向上依次排列，并且在所述狭缝宽度方向上相邻的射束测量面在所述射束行进方向上错开。
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