[发明专利]离子注入装置及扫描波形制作方法

摘要

本发明提供一种离子注入装置及扫描波形制作方法，其课题为在衬底表面准确地实现不均匀的二维离子注入量分布。本发明的离子注入装置(10)具备：射束扫描仪(26)，沿射束扫描方向提供往复射束扫描；第2射束测量部(50)，在射束扫描仪(26)的下游测量射束扫描方向的射束电流强度分布；及控制装置(60)。控制装置(60)具备扫描波形制作部，所述扫描波形制作部判断在给定的扫描波形的基础上通过第2射束测量部(50)测量的测量射束电流强度分布是否适合目标不均匀剂量分布，当适合时，将给定的扫描波形与目标不均匀剂量分布建立对应关联。

主权项

1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：/n射束扫描仪，按照扫描波形沿射束扫描方向提供往复射束扫描；/n机械扫描仪，使衬底沿机械扫描方向往复运动；/n控制装置，控制所述射束扫描仪及所述机械扫描仪，以给予衬底表面目标二维不均匀剂量分布；及/n射束电流测量部，在所述射束扫描仪的下游测量射束扫描方向的射束电流强度分布，/n所述控制装置具备：/n目标设定部，将所述目标二维不均匀剂量分布转换成多个目标剂量分布，所述多个目标剂量分布各自为射束扫描方向的剂量分布且在机械扫描方向形成于不同的位置；及/n射束扫描驱动部，从注入用扫描波形数据库获取与所述多个目标剂量分布分别对应的扫描波形，根据机械扫描方向的衬底位置从所获取的扫描波形中选择任一扫描波形，并使用所选择的扫描波形驱动所述射束扫描仪，/n所述多个目标剂量分布包括至少一个目标不均匀剂量分布，/n所述控制装置还具备扫描波形制作部，所述扫描波形制作部判断在给定的扫描波形的基础上通过所述射束电流测量部测量的测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布，当适合时，将所述给定的扫描波形与所述目标不均匀剂量分布建立对应关联并存储于所述注入用扫描波形数据库，/n所述扫描波形制作部将预先设定的过渡区域除外而判断所述测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布。/n