[发明专利]离子注入装置及扫描波形制作方法

权利要求书

1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：

射束扫描仪，按照扫描波形沿射束扫描方向提供往复射束扫描；

机械扫描仪，使衬底沿机械扫描方向往复运动；

控制装置，控制所述射束扫描仪及所述机械扫描仪，以给予衬底表面目标二维不均匀剂量分布；及

射束电流测量部，在所述射束扫描仪的下游测量射束扫描方向的射束电流强度分布，

所述控制装置具备：

目标设定部，将所述目标二维不均匀剂量分布转换成多个目标剂量分布，所述多个目标剂量分布各自为射束扫描方向的剂量分布且在机械扫描方向形成于不同的位置；及

射束扫描驱动部，从注入用扫描波形数据库获取与所述多个目标剂量分布分别对应的扫描波形，根据机械扫描方向的衬底位置从所获取的扫描波形中选择任一扫描波形，并使用所选择的扫描波形驱动所述射束扫描仪，

所述多个目标剂量分布包括至少一个目标不均匀剂量分布，

所述控制装置还具备扫描波形制作部，所述扫描波形制作部判断在给定的扫描波形的基础上通过所述射束电流测量部测量的测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布，当适合时，将所述给定的扫描波形与所述目标不均匀剂量分布建立对应关联并存储于所述注入用扫描波形数据库，

所述扫描波形制作部将预先设定的过渡区域除外而判断所述测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布。

2.根据权利要求1所述的离子注入装置，其特征在于，

当所述测量射束电流强度分布不适合所述目标不均匀剂量分布时，所述扫描波形制作部对所述给定的扫描波形进行修正，并判断在经修正的扫描波形的基础上重新测量的测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布。

3.根据权利要求1或2所述的离子注入装置，其特征在于，

所述扫描波形制作部反复进行以规定步骤制作扫描波形，并判断在制作出的扫描波形的基础上通过所述射束电流测量部测量的测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布，直至找出适合的测量射束电流强度分布。

4.根据权利要求1或2所述的离子注入装置，其特征在于，

所述扫描波形制作部遍及由用于向所述衬底表面注入离子的所述射束扫描仪进行扫描的扫描范围，判断所述测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布。

5.根据权利要求1或2所述的离子注入装置，其特征在于，

所述目标不均匀剂量分布具有：第1精密注入区域，设定为第1目标剂量；及第2精密注入区域，设定为第2目标剂量且与所述第1精密注入区域在射束扫描方向上相邻，

所述控制装置具备过渡区域设定部，所述过渡区域设定部在所述第1精密注入区域与所述第2精密注入区域之间设定所述过渡区域。

6.根据权利要求5所述的离子注入装置，其特征在于，

所述离子注入装置还具备射束线构成要件，所述射束线构成要件配设在所述射束扫描仪的上游或下游，并且能够调整所述衬底表面上的射束扫描方向的射束宽度，

所述控制装置具备射束宽度调整部，所述射束宽度调整部控制所述射束线构成要件以使所述射束宽度比过渡区域在射束扫描方向的长度短。

7.根据权利要求5所述的离子注入装置，其特征在于，

过渡区域在射束扫描方向的长度为5mm以上且30mm以下。

8.根据权利要求5所述的离子注入装置，其特征在于，

所述多个目标剂量分布包括一组目标不均匀剂量分布，所述一组目标不均匀剂量分布分别具有过渡区域且沿机械扫描方向排列，过渡区域遍及所述一组目标不均匀剂量分布而连续。

9.根据权利要求1或2所述的离子注入装置，其特征在于，

所述扫描波形制作部通过对与所述目标不均匀剂量分布关联的目标射束电流强度分布和所述测量射束电流强度分布进行比较，来判断所述测量射束电流强度分布是否适合所述目标不均匀剂量分布。