[发明专利]一种高磁性因子烧结钕铁硼的制备方法

摘要

一种高磁性因子烧结钕铁硼的制备方法，它包括：将原材料按比例配料，后采用中频真空速凝甩带炉制备合金薄片；将合金薄片在氢破碎炉中进行氢化处理，制备出粒度为180～270目的粗颗粒；氢化后的粗粉由气流磨磨至平均粒度为2.0～3.5μm的细粉末；在氩气保护下，采用气流混合机将上述粉料与纳米混合添加剂混合均匀，其中纳米混合添加剂采用真空电弧熔炼+快速—原位包装等离子体电弧法制备；将混后的粉料在氮气保护下经2.0～3.0T磁场取向成型、等静压；在充满氮气的封闭手套箱内将钕铁硼生坯装入真空烧结炉中，并在5～10MPa氩气压力下进行压力烧结，最后进行两次时效处理，制得性能达到国标中相应的钕铁硼磁体。该方法成本低、节能环保、材料利用率高。

主权项

1.一种高磁性因子烧结钕铁硼的制备方法，其特征包括以下步骤：1)、将原材料按NdaHRbFe(100%‑a‑b‑c‑d‑e‑f‑g‑h) BcAldCueNbfCogGah比例进行配料，其中HR代表由重稀土元素Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或多种按一定比例组成，后采用中频真空速凝甩带炉制备厚度为0.2～0.4mm的合金薄片，甩带辊速控制在2‑5m/s；2)、将合金薄片在氢碎炉的反应釜内20~200℃下吸氢1.5~3.5小时后加热至500～650℃脱氢5～6小时，制备出粒度为180～270μm的粗粉，后加入2~5‰的防氧化剂均匀混合15~30分钟后，将该粗粉料备用；3)、将2)步混合后的粗粉料由JZDB‑100型气流磨在0.7~0.8MPa工作压力、研磨室氧含量≤10ppm下磨至平均粒度为2.0～3.5μm的细粉料；4)、在氩气保护氛围中，气流混合机将3)步的细粉料与7）步制得的R‑M纳米添加剂进行均匀混合10～30分钟，该添加剂所占3)步细粉料的总重量0.1‑20%；5)、将经4)步制成的粉料在氮气保护下经2.0～3.0T磁场取向成型，后经300MPa冷等静压制成钕铁硼生坯；6)、在充满氮气的封闭手套箱内将钕铁硼生坯装入压力烧结炉中，在真空负压、500～650℃×1～3h下进行除杂处理，后继续抽真空升温；在真空负压、800～950℃×2～4h下进行去气处理，后继续抽真空升温；当温度达到设定烧结温度时向炉体内充入氩气，并在炉内压力为5～10MPa、1030～1080℃×1～3h条件下进行烧结后快冷，最后进行两次真空时效处理：第一次为：850～900℃×1～3h；第二次为：450～530℃×3～5h；7)、平均粒径为50~80nm的R‑M纳米添加剂采用真空电弧熔炼+快速—原位包装等离子体电弧法制备，且用于制备纳米添加剂的原料纯度均大于99.5wt%；R代表稀土元素Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或两种以上；M代表Al、Cu、Nb、Co、Ga、V、Ti、Zr、Zn、Mg中的一种或两种以上；a‑h均为重量百分比，且a=20～35%，b=0～15%，c=0.9～1.2%，d=0～1.0%，e=0～0.5%，f=0～0.5%，g=0～5.0%，h=0～0.5%。