[发明专利]半导体加工设备

摘要

本发明提供了半导体加工设备，包括腔室和光学发射光谱监测装置，在腔室的腔室壁上设置有透明窗，光学发射光谱监测装置包括透镜、不透光的筒体、光电转换器和接收器；透镜和光电转换器设置在筒体内，透镜，与透明窗相对设置，用于将腔室内自透明窗出射的光信号聚焦至光电转换器上；光电转换器，用于将光信号转换为电信号并发送至接收器；接收器，用于接收光电转换器发送的电信号，以根据电信号监测腔室内的工艺状态。本发明提供的半导体加工设备，其光学发射光谱监测装置不仅能够实现半导体工业上的应用，而且成本较低、结构简单；不需要采用现有的算法软件进行谱线复原处理，从而使得整个过程相对较简单，而且操作工程师不需要对谱线进行分析。

主权项

1.一种半导体加工设备，包括腔室和光学发射光谱监测装置，其特征在于，在所述腔室的腔室壁上设置有透明窗，所述光学发射光谱监测装置包括透镜、不透光的筒体、光电转换器和接收器；所述透镜和所述光电转换器设置在所述筒体内，所述透镜，与所述透明窗相对设置，用于将所述腔室内自所述透明窗出射的光信号聚焦至光电转换器上；所述光电转换器，用于将所述光信号转换为电信号并发送至接收器；所述接收器，用于接收所述光电转换器发送的电信号，以根据所述电信号监测腔室内的工艺状态。