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[发明专利]工艺腔室和半导体工艺设备-CN202210175638.3在审
发明人：王磊磊 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本发明公开一种工艺腔室和半导体工艺设备，涉及半导体制造技术领域。该工艺腔室包括内层腔室壁和外层腔室壁，内层腔室壁围成一反应腔，外层腔室壁套设于内层腔室壁的外侧，且外层腔室壁与内层腔室壁之间设置有隔热腔，隔热腔沿内层腔室壁的外周方向围绕于内层腔室壁的外侧；外层腔室壁的外侧壁或内侧壁设置有反射层该半导体工艺设备包括本发明所述的工艺腔室。该方案能解决工艺腔室的外表面的金层容易脱落的问题。
工艺半导体工艺设备

[发明专利]一种双卡槽柔性驱动器-CN202011088700.2在审
发明人：亓瑞康;朱先意;乔诗翔;孙中圣 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2020-10-13 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： B25J15/00 文献下载
摘要：发明公开了一种双卡槽柔性驱动器，包括弹性气腔腔室下壁、弹性气腔腔室前壁、弹性气腔腔室上壁、弹性气腔腔室后壁、第一卡槽槽壁、第二卡槽槽壁；弹性气腔腔室下壁、弹性气腔腔室前壁、弹性气腔腔室上壁、弹性气腔腔室后壁依次连接共同围绕形成内部弹性气腔，第一卡槽槽壁连接于弹性气腔腔室前壁的前部，第一卡槽槽壁与弹性气腔腔室前壁之间形成第一卡槽，第二卡槽槽壁连接于弹性气腔腔室后壁的后部，第二卡槽槽壁与弹性气腔腔室后壁之间形成第二卡槽，内部弹性气腔通过一气孔与气源或大气连通
一种双卡槽柔性驱动器

[发明专利]扬声器组件-CN200810300267.7无效
发明人：杨宗龙;李佩荣;赵文云;邓星雄 -专利权人：深圳富泰宏精密工业有限公司
申请日： 2008-01-30 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： H04R1/28 文献下载
摘要：所述壳体呈一凹腔状，其包括一底壁、一由底壁周缘延伸形成的周壁及一垂直于底壁方向延伸形成的延伸壁，所述延伸壁将壳体分隔成若干腔室。所述腔室包括一第一腔室、一第二腔室及一第三腔室，所述第一腔室与第二腔室及第三腔室互相连通。所述周壁上对应开设有连通第二腔室与外界的出音孔以及连通第三腔室与外界的出音孔，所述扬声器以其出音面朝向底壁方向装设于第一腔室内，该扬声器与底壁间形成一与第二腔室、第三腔室相互连通的谐振空间。
扬声器组件

[发明专利]盒-CN201510303411.2有效
发明人：五十岚章训 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2015-06-05 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： B41J2/175 文献下载
摘要：提供一种盒，盒存储待供应到液体消耗部的液体，盒包括：壁，限定液体存储腔室，液体存储腔室能存储液体，壁包括：上壁，限定液体存储腔室的上端；下壁，限定液体存储腔室的下端；和直立壁，直立地设置在上壁和下壁之间，且能从盒的外部通过直立壁看到在液体存储腔室的内部的液体；入口，穿透上壁或直立壁，以允许液体通过入口流入液体存储腔室中；和出口，允许液体从液体存储腔室经由出口流出，其中下壁包括：上段壁，与直立壁接触；下段壁，位于与直立壁分离且离开的位置处且位于上段壁的下方；和连接壁，连接上段壁和下段壁；且出口设置在上段壁的下方。
液体存储腔室直立壁段壁上壁下壁下段出口液体消耗部存储液体连接上段液体通过连接壁位置处上端直立下端种盒穿透存储流出外部

[发明专利]经由用于半导体处理设备的经加热腔室壳体减少腔室壁上的凝结气体-CN201980087132.3在审
发明人：约翰·巴格特 -专利权人：艾克塞利斯科技公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：工件处理系统具有腔室，腔室具有一个或多个腔室壁，腔室壁限定圈定腔室容积的表面。一个或多个腔室壁加热器选择性地将腔室壁加热到腔室壁温度。腔室内的工件支撑件选择性地支撑具有一种或多种材料的工件，该一种或多种材料具有相应的凝结温度，在高于凝结温度时，该一种或多种材料分别处于气态。加热器装置选择性地将工件加热到预定温度。控制器通过控制加热器装置将工件加热到预定温度，对该一种或多种材料进行加热，以分别在腔室内形成一种或多种被脱气材料。控制器还通过控制腔室壁加热器来控制腔室壁温度，其中腔室壁温度大于被脱气材料的凝结温度，从而防止被脱气材料在腔室表面上凝结。
经由用于半导体处理设备加热壳体减少壁上凝结气体

[发明专利]墨盒-CN94116858.1无效
发明人：冈崎猛史;池田雅实;阿部力;樫野俊雄;日隅昌彦;但马裕基;石永博之;种谷阳一 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 1994-08-18 - 公布日： 2002-06-26 - 主分类号： B41J2/175 文献下载
摘要：一种喷墨记录装置的墨盒，其包含向记录头提供油墨的第一腔室、第二腔室、和仅与第二腔室连通的第三腔室，第二腔室仅与第一腔室和第三腔室连通；第三腔室这样定位，其沿第一腔室和第二腔室的侧壁从壳体前壁至后壁的方向延伸，壳体的底壁具有这样的形状，当在使用中墨盒连接至喷墨记录装置上时，形成第三腔室的一个壁的一部分底壁的设置高度高于形成第一和第二腔室的一个壁的一部分底壁。
墨盒

[发明专利]用于等离子体腔室条件监测的电容传感器及电容感测位置-CN202180013444.7在审
发明人：潘尧令;P·J·唐;L·泰德斯奇;P·A·克劳斯;M·D·威尔沃斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：描述了用于等离子体腔室条件监测的电容传感器及电容感测位置。在一示例中，等离子体处理腔室包括腔室壁，所述腔室壁环绕处理区域。腔室盖在所述腔室壁之上并且在所述处理区域上方。腔室地板在所述腔室壁下并且在所述处理区域下方。支撑基座在所述处理区域中且在所述腔室盖下方并且在所述腔室地板上方，并且所述支撑基座被所述腔室壁环绕。电容传感器模块可在所述腔室壁的开口中。腔室盖可包括电容传感器模块。腔室地板可包括排气端口及在所述排气端口内或相邻于所述排气端口的电容传感器模块。支撑基座可包括环结构，所述环结构环绕基板支撑区域，并且电容传感器模块在所述环结构的开口中。
用于等离子体腔条件监测电容传感器测位

[发明专利]盒和液体消耗装置-CN201810791594.0有效
发明人：五十岚章训 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2015-06-05 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： B41J2/175 文献下载
摘要：提供盒和液体消耗装置，盒存储待供应到液体消耗部的液体，包括：壁，限定液体存储腔室，包括：上壁，限定液体存储腔室的上端；下壁，限定液体存储腔室的下端；直立壁，设置在上壁和下壁之间，且能从盒的外部通过直立壁看到液体存储腔室的内部的液体；入口，穿透上壁或直立壁以允许液体通过入口流入液体存储腔室；出口，液体从液体存储腔室经由出口流出。下壁包括：上段壁，具有与直立壁接触的基端部，基端部沿直立壁延伸的水平方向在液体存储腔室的整个区域中延伸；下段壁，位于与直立壁分离且离开的位置处且位于上段壁的下方；连接壁，连接上段壁和下段壁；且出口设置在上段壁的下方
液体消耗装置

[实用新型]试剂卡盒-CN202022336825.4有效
发明人：于鸫;刘丽萍;祁世泽 -专利权人：广东唯实生物技术有限公司
申请日： 2020-10-19 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： B65D25/02 文献下载
摘要：本申请提供了一种试剂卡盒，涉及免疫检测领域，包括第一腔室，用于容纳检测试剂；第二腔室，与第一腔室连通，并用于容纳样品；显示区域，与第一腔室连通；第一壁构件；第二壁构件，第二腔室由第一壁构件和第二壁构件共同限定；第三壁构件，第一腔室由第二壁构件和第三壁构件共同限定。本申请提供的试剂卡盒，第一腔室、第二腔室和显示区域分别由不同的壁构件进行限定，在确保连通关系的情况下，避免了试剂相互污染的情况出现。
试剂

[实用新型]一种自流清洗缸-CN202022023137.2有效
发明人：刘旺;朱春建;陶洁 -专利权人：珠海贝索生物技术有限公司
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： D06B23/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自流清洗缸，包括缸体、进水机构、主出水机构以及虹吸出水机构；缸体内部具有第一腔室和第二腔室，第一腔室位于第二腔室上方；第一腔室在底部左侧与第二腔室连通，在底部右侧具有出水机构安装壁；第二腔室的底部具有进水机构安装壁，右侧具有连接出水机构安装壁和进水机构安装壁的连接壁；进水机构与第二腔室连通；主出水机构与第一腔室连通；虹吸出水机构设置在连接壁、出水机构安装壁位于连接壁和主出水机构之间的部分以及主出水机构靠近连接壁一侧的内部，与第二腔室连通；本实用新型提供的自流清洗缸自动排液，无需外部动力，不仅节能、节省人力，而且不会损害操作人员的健康。
一种自流清洗

[实用新型]一种水嘴-CN201520875911.9有效
发明人：章钢锋;陈君 -专利权人：玉环苗艺阀门制造有限公司
申请日： 2015-11-04 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： F16K27/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及阀门的技术领域，它涉及一种水嘴，包括本体及手柄，本体的输出端上设有分水器，本体包括安装体及与安装体可拆卸连接的外接管，外接管内构成有输入腔室、安装体内构成有转换腔室及输出腔室输入腔室、转换腔室及输出腔室依次连接，转换腔室包括相互联通的活动室及直通室，输出腔室包括相互联通的内室及外室，其中，直通室与内室之间的内壁之间构成有加强件，加强件包括相互连接的抗压壁及支撑壁，抗压壁及支撑壁之间构成有加强角，加强角的角度为100°-110°，抗压壁相对于直通室的倾斜角度为60°-70°，抗压壁的长度与支撑壁的长度比值为2-3，本实用新型结构合理简单、耐水压、结构稳定。
一种

[发明专利]多阶段泵送衬垫-CN202180059866.8在审
发明人：佟明乐 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-09 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：示例性半导体处理系统可包括泵送系统，限定处理区域的腔室主体，及布置于处理区域之中的泵送衬垫。泵送衬垫可限定环状构件，由壁表征，该壁限定耦合至泵送系统的排气孔洞。环状构件可由内部壁表征，该内部壁限定沿着内部壁环绕分布的多个孔洞。气室可限定于环状构件中，介于壁的内部表面之间。分隔件可布置于气室之中，其中分隔件将气室分开成第一气室腔室及第二气室腔室，其中第一气室腔室从穿过内部壁限定的孔洞可流体进出，且其中分隔件限定至少一个孔洞，提供第一气室腔室与第二气室腔室之间的流体进出。
阶段衬垫

[发明专利]培养装置-CN202111170828.8有效
发明人：王玄 -专利权人：上海睿钰生物科技有限公司
申请日： 2021-10-08 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：本说明书一个或多个实施例涉及一种培养装置，培养装置包括：容纳底座，容纳底座上设有容纳腔室，容纳腔室包括用于容纳培养物的培养腔室；培养腔室包括腔室底壁以及围合在腔室底壁周侧的腔室侧壁，腔室侧壁的外侧与容纳腔室的内壁之间形成培养液通道；腔室侧壁的至少部分包括膜材，膜材所在平面与所述腔室底壁相交。
培养装置

[实用新型]培养装置-CN202122420855.8有效
发明人：王玄 -专利权人：上海睿钰生物科技有限公司
申请日： 2021-10-08 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：本说明书一个或多个实施例涉及一种培养装置，培养装置包括：容纳底座，容纳底座上设有容纳腔室，容纳腔室包括用于容纳培养物的培养腔室；培养腔室包括腔室底壁以及围合在腔室底壁周侧的腔室侧壁，腔室侧壁的外侧与容纳腔室的内壁之间形成培养液通道；腔室侧壁的至少部分包括膜材，膜材所在平面与所述腔室底壁相交。
培养装置

[实用新型]一种喷气均匀的蒸汽电熨斗-CN202021708238.7有效
发明人：陈军辉;陈银辉;翟磊 -专利权人：慈溪市三联家用电器有限公司
申请日： 2020-08-15 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： D06F75/14 文献下载
摘要：本实用新型公开一种喷气均匀的蒸汽电熨斗，包括带加热器的底板，底板的上侧面上形成有蒸汽室，其特征在于：所述蒸汽室内从内向外依次形成有内腔室、中腔室和外腔室，内腔室和中腔室之间通过内环壁进行分隔，中腔室和外腔室之间通过中环壁进行分隔，在内环壁和中环壁之间连接有连接壁，蒸汽室的蒸汽源形成于中腔室上靠近连接壁的区域，在内环壁上开设有与中腔室连通的连通孔，连通孔靠近蒸汽源处，在内腔室上与连通孔相对处设置有用于连通内腔室和外腔室的连通通道，在外腔室的底面上设置有多个出气通道，出气通道和蒸汽孔相对布置。本实用新型提供一种喷气均匀的蒸汽电熨斗，使得底板蒸汽室的结构设计更为合理，提高蒸汽量的稳定性。
一种喷气均匀蒸汽电熨斗

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