[发明专利]一种硅片边缘保护装置有效
申请号: | 201710060966.8 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN108345178B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 蔡晨;王鑫鑫;刘臣才 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种硅片边缘保护装置,包括保护环、固定机构和升降机构;所述保护环安装在固定机构上,所述升降机构固定在曝光台上并带动所述固定机构升降,实现所述保护环贴近或离开所述硅片边缘。本发明提供的一种硅片边缘保护装置,保护环装置安装在曝光台上并与曝光台一起运动,每次硅片曝光过程中,衔接时间缩短,提高生产效率,且硅片边缘保护时定位精度高,提高了保护效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 边缘 保护装置 | ||
【主权项】:
1.一种硅片边缘保护装置,包括保护环,其特征在于,还包括固定机构和升降机构;所述保护环安装在固定机构上,所述升降机构固定在曝光台上并带动所述固定机构升降,实现所述保护环贴近或离开所述硅片边缘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710060966.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:层迭误差测量装置及方法
- 下一篇:一种曝光设备及曝光方法