[发明专利]一种硅片边缘保护装置有效
申请号: | 201710060966.8 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN108345178B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 蔡晨;王鑫鑫;刘臣才 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 边缘 保护装置 | ||
本发明提供了一种硅片边缘保护装置,包括保护环、固定机构和升降机构;所述保护环安装在固定机构上,所述升降机构固定在曝光台上并带动所述固定机构升降,实现所述保护环贴近或离开所述硅片边缘。本发明提供的一种硅片边缘保护装置,保护环装置安装在曝光台上并与曝光台一起运动,每次硅片曝光过程中,衔接时间缩短,提高生产效率,且硅片边缘保护时定位精度高,提高了保护效率。
技术领域
本发明涉及硅片保护技术领域,特别涉及一种硅片边缘保护装置。
背景技术
光刻装置主要用于集成电路IC或其他微型器件的制造。通过光刻装置,可将掩模图形成像于涂覆有光刻胶的晶片上,例如半导体或LCD板。光刻装置通过投影物镜曝光,将设计的掩模图形转移到光刻胶上。在负胶工艺曝光过程中,硅片边缘容易受到损坏,因此产生硅片边缘保护装置。
常规的硅片边缘保护机构工艺路线为:曝光前,将硅片加载至曝光台上,曝光台运动到交接位置,将保护环放置到曝光台上之后,曝光台再运动至曝光位置完成曝光;曝光完成之后,曝光台运动到保护环交接位置将保护环取下,然后将完成曝光的硅片运至下一道工序;硅片边缘保护装置安装在整机框架上、位置比较固定,不随曝光台一起运动,工艺衔接时间长,效率较低。
发明内容
本发明为了弥补现有的技术缺陷,提供一种硅片边缘保护装置,以解决现有保护环装置在保护硅片边缘过程中,保护环不随曝光台运动,工艺衔接时间长、效率低的问题。
为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种硅片边缘保护装置,包括保护环,还包括固定机构和升降机构;所述保护环安装在固定机构上,所述升降机构固定在曝光台上并带动所述固定机构升降,实现所述保护环贴近或离开所述硅片边缘。
可选地,所述保护环是环形结构,所述保护环中央为镂空部分,边缘为实体部分。
可选地,所述固定机构包括安装座和定位座,其中,所述安装座安装在所述升降机构上,所述定位座固定在所述安装座上,所述保护环固定于所述定位座与所述安装座之间。
可选地,所述安装座为半圆环形。
可选地,所述固定机构还包括定位靠销,所述定位靠销固定安装在安装座上并与所述保护环的边缘贴合。
可选地,所述升降机构采用剪式升降机构或者侧移机构。
可选地,所述剪式升降机构包括剪式升降架和线性轴承机构,所述剪式升降架和线性轴承机构的顶部均固定在固定机构底部,所述剪式升降架和线性轴承机构的底部均固定在曝光台上。
可选地,所述剪式升降架包括剪式连杆机构和第一气缸驱动机构,所述第一气缸驱动机构安装在剪式连杆机构上,所述剪式连杆机构一端固定在固定机构底部,另一端固定在曝光台上。
可选地,所述剪式连杆机构包括底座和至少八根连杆,每四根连杆通过转动轴相互铰接形成一组平行四边形连杆结构,八根连杆形成两组平行四边形连杆结构,所述两组平行四边形连杆结构相互连接并对称设置,每组所述平行四边形连杆结构一端滑动连接所述底座,并通过所述底座固定在曝光台上,另一端滑动连接所述安装座,所述第一气缸驱动机构固定在所述底座上,并与所述两组平行四边形连杆结构连接。
可选地,所述侧移机构包括铰链杆机构、导向机构和第二气缸驱动机构,所述铰链杆机构、导向机构和第二气缸驱动机构的一端均安装在固定机构上,另一端安装在曝光台上,所述铰链杆机构包括多根对称分布形成平行四边形的铰链杆。
可选地,所述铰链杆包括一根连杆和两个铰链,所述连杆的两端分别通过所述两个铰链连接所述安装座和曝光台。
可选地,所述导向机构包括圆弧形导轨和滚轮,所述滚轮一端固定在安装座上,另一端设置在所述圆弧形导轨中,所述圆弧形导轨固定在曝光台上,所述圆弧形导轨的较低端面向所述硅片边缘。
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