[发明专利]光刻胶去除用剥离液组合物有效
| 申请号： | 201710053375.8 | 申请日： | 2017-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN106997158B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 金珉姬;郑玄铁;李相大 | 申请（专利权）人： | 易案爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的光刻胶去除用剥离液组合物具有如下的优点，即，即使未将对环境和人体有害的N‑甲基甲酰胺(N‑methylforamide，NMF)、N‑甲基吡咯烷酮(N‑methylpyrrolidone，NMP)作为主溶剂使用，也可在完成干式或湿式蚀刻后迅速剥离所改性的光刻胶，并且由于未在基板上残留异物及污痕，因此可明显提高工序上的效率。并且，还可使底膜的腐蚀最小化，从而具有可明显提高工序上的效率地优点。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 去除 剥离 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻胶去除用剥离液组合物，其特征在于，包含10重量百分比至80重量百分比的N‑乙基甲酰胺、1重量百分比至30重量百分比的胺化合物以及10重量百分比至80重量百分比的质子性极性溶剂。
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