[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置在审
| 申请号： | 201710024752.5 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN107037648A | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 江亮亮;干泉;郭磊;戴珂;尹傛俊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，可在阵列基板设置于出光侧时，防止阵列基板上的金属图案对外界环境光进行反射。该阵列基板包括显示区和非显示区，显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。用于制备阵列基板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括显示区和非显示区，所述显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，其特征在于，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。
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