[发明专利]一种质量厚度为400~2000μg/cm2有效

专利信息
申请号: 201710001108.6 申请日: 2017-01-03
公开(公告)号: CN106868460B 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 樊启文;胡跃明;王华;张榕 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于核技术应用领域,具体涉及核物理实验所需的一种质量厚度为400~2000μg/cm2自支撑Ir靶的制备工艺。该工艺主要包括以下五个步骤:(1)用聚焦重离子溅射法在铜基衬上溅射沉积质量厚度为100~250μg/cm2的Ir沉积层,得到铜基Ir膜;(2)将铜基Ir膜放置在硝酸溶液表面,待铜基被硝酸腐蚀溶解完全后,得到与铜基衬分离的Ir沉积层;(3)利用载玻片将Ir沉积层转移至去离子水表面以清洗Ir沉积层表面的硝酸溶液;(4)将上述清洗过的Ir沉积层利用靶框固定;(5)以步骤(4)得到的Ir沉积层作为基衬,再次利用聚焦重离子溅射沉积法在该基衬上溅射沉积Ir,直至得到所需质量厚度的自支撑Ir靶。该制备工艺具有平整性好、厚度均匀性好的有益效果。
搜索关键词: 一种 质量 厚度 400 2000 cm base sup
【主权项】:
一种质量厚度为400~2000μg/cm2自支撑Ir靶的制备工艺,其特征在于,该工艺主要包括以下五个步骤:(1)以铜箔为基衬,用聚焦重离子溅射法在该基衬上溅射沉积质量厚度为100~250μg/cm2的Ir沉积层,得到铜基Ir膜;(2)将步骤(1)得到的铜基Ir膜放置在硝酸溶液表面,其中铜基面直接接触硝酸溶液,待铜基被硝酸腐蚀溶解完全后,得到与铜基衬分离的Ir沉积层;(3)利用载玻片将步骤(2)得到的Ir沉积层转移至去离子水表面以清洗Ir沉积层表面的硝酸溶液;(4)将上述清洗过的Ir沉积层利用靶框固定;(5)以步骤(4)得到的Ir沉积层作为基衬,再次利用聚焦重离子溅射沉积法在该基衬上溅射沉积Ir,直至得到所需质量厚度的自支撑Ir靶。
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