[发明专利]用于在真空沉积工艺中在基板上进行材料沉积的设备、用于在基板上进行溅射沉积的系统和用于制造用于在基板上进行材料沉积的设备的方法在审
| 申请号： | 201680086715.0 | 申请日： | 2016-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN109379895A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 细川昭弘 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本公开内容提供一种用于在真空沉积工艺中在基板上进行材料沉积的设备。所述设备包括：靶材支撑件；两个或更多个靶材分段，所述两个或更多个靶材分段由所述靶材支撑件支撑，其中在所述两个或更多个靶材分段的相邻靶材分段之间设有第一间隙；和两个或更多个粘合层部分，两个或更多个粘合层部分的每个粘合层部分将所述两个或更多个靶材分段中的相应靶材分段粘合到所述靶材支撑件，其中相邻靶材分段的粘合层部分由大于所述第一间隙的第二间隙彼此分开。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 分段 粘合层 基板 材料沉积 支撑件 真空沉积工艺 彼此分开 溅射沉积 内容提供 粘合 支撑 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于在真空沉积工艺中在基板上进行材料沉积的设备，包括：靶材支撑件；两个或更多个靶材分段，所述两个或更多个靶材分段由所述靶材支撑件支撑，其中第一间隙设在所述两个或更多个靶材分段的相邻靶材分段之间；和两个或更多个粘合层部分，所述两个或更多个粘合层部分的每个层部分将所述两个或更多个靶材分段的相应靶材分段粘合到所述靶材支撑件，其中相邻靶材分段的粘合层部分以大于所述第一间隙的第二间隙彼此分开。
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