[发明专利]用于薄无机膜的产生的方法有效
| 申请号： | 201680068490.6 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN108368606B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | T·阿德尔曼;D·勒夫勒;C·林伯格;F·阿贝尔斯;H·威尔默;M·吉尔;M·格里菲思;S·巴里 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C07F13/00;C07F15/04;C07F15/06;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘金辉;林柏楠 |
| 地址： | 德国莱茵河*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明属于用于在底材上产生薄无机膜的方法，特别是原子层沉积方法的领域。本发明涉及一种方法，其包含使通式(I)的化合物变成气态或气溶胶态 |
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| 搜索关键词： | 用于 无机 产生 方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，其包含使通式(I)的化合物变成气态或气溶胶态![]()
并将通式(I)的化合物自气态或气溶胶态沉积至固体底材上，其中R1、R2、R3与R4彼此独立地为烷基基团、芳基基团或三烷基硅基基团，M为Mn、Ni或Co，X为配位M的配位基，其中至少一个X为电中性的配位基，m为1、2或3且n为至少1，其中通式(I)的化合物的分子量至多为1000g/mol。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
