[发明专利]用于薄无机膜的产生的方法

权利要求书

1.一种包含使通式(I)的化合物变成气态或气溶胶态并将通式(I)的化合物自气态或气溶胶态沉积至固体底材上的方法，

L_m----M-X_n (I)

其中

R¹、R²、R³与R⁴彼此独立地为烷基基团、芳基基团或三烷基硅基基团，

M为Mn、Ni或Co，

X为通过氮或磷原子配位M的配位基或为脂肪族烃、烷醇化物、氰化物、溴化物、CO或NO，其中至少一个X为NO、CO或三烷基膦，

m为1、2或3且

n为1-4，

其中通式(I)的化合物的分子量至多为1000g/mol。

2.根据权利要求1的方法，其中n为至少2。

3.根据权利要求1的方法，其中X与n为经挑选以将M的价电子的数目调整成偶数。

4.根据权利要求2的方法，其中X与n为经挑选以将M的价电子的数目调整成偶数。

5.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中R¹、R²、R³与R⁴为甲基或乙基。

6.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中至少一个X为三烷基膦。

7.根据权利要求5的方法，其中至少一个X为三烷基膦。

8.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中至少一个X为CO。

9.根据权利要求5的方法，其中至少一个X为CO。

10.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中M为Co且至少一个X为NO。

11.根据权利要求5的方法，其中M为Co且至少一个X为NO。

12.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中至少一个X为通过至少二个中性或阴离子性氮原子配位M的配位基。

13.根据权利要求5的方法，其中至少一个X为通过至少二个中性或阴离子性氮原子配位M的配位基。

14.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中至少一个X为通过磷原子配位的配位基。

15.根据权利要求5的方法，其中至少一个X为通过磷原子配位的配位基。

16.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中通式(I)的化合物被化学吸附在该固体底材的表面上。

17.根据权利要求15的方法，其中通式(I)的化合物被化学吸附在该固体底材的表面上。

18.根据权利要求1至4中任一项的方法，其中经沉积的通式(I)的化合物为通过移除所有的配位基L与X来分解。

19.根据权利要求17的方法，其中经沉积的通式(I)的化合物为通过移除所有的配位基L与X来分解。

20.根据权利要求18的方法，其中经沉积的通式(I)的化合物被暴露至还原剂。

21.根据权利要求19的方法，其中经沉积的通式(I)的化合物被暴露至还原剂。