[发明专利]可规划的沉积装置有效
| 申请号： | 201680054585.2 | 申请日： | 2016-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN108026640B | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 彼得·简·德洛吉;恩斯特·杜勒梅吉尔;爱德华·雷尼尔·弗朗西斯卡·克莱科斯 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫涂料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 彭立兵;林柏楠 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了沉积装置，所述沉积装置包括框架和具有沿中心轴延伸的圆柱状表面的圆柱状卷筒。所述卷筒具有垂直于所述中心轴延伸的第一端部表面和第二端部表面。所述卷筒可旋转地安装于所述框架中并包括位于所述圆柱状表面上的多个气体区域。所包括的气体通道在所述卷筒内延伸。所述气体区域中的至少一些与至少两个通道气体连接。所述沉积装置包括闭合组件以用于封闭除所述至少两个通道之一以外的全部，所述气体区域与所述至少两个通道之一气体连接，以便沿所述卷筒表面供应至各种气体区域的气体类型为可规划的。 | ||
| 搜索关键词： | 规划 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1.沉积装置(10)，包括：框架(12)；圆柱状卷筒(14)，其具有围绕中心轴(A)延伸的圆柱状表面(14a)和垂直于所述中心轴(A)延伸的第一端部表面(14b)和第二端部表面(14c)，所述卷筒(14)可旋转地安装于所述框架(12)中，所述圆柱状卷筒(14)包括：通道(18和任选的32)，其在所述圆柱状卷筒(14)内延伸，所述通道的进口可连接至气体源或排气装置；多个气体区域(16)，其位于所述圆柱状表面(14a)上，其中所述多个气体区域(16)中的至少一些与至少两个通道(18)气体连接；闭合组件(30)，其用于封闭除所述至少两个通道(18)之一以外的全部，所述多个气体区域(16)中的所述一些中的所述气体区域(16)与所述至少两个通道(18)之一气体连接。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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