[发明专利]移除接着剂的方法与装置在审
申请号: | 201680051025.1 | 申请日: | 2016-08-17 |
公开(公告)号: | CN108139664A | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 朴一贤;赵大烨;金煐中 | 申请(专利权)人: | EO科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;G03F1/66;B08B7/00 |
代理公司: | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 | 代理人: | 仲伯煊 |
地址: | 韩国京畿道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 揭示一种自光罩上去除光罩与薄层接着的接着剂的装置。接着剂去除装置包括:激光照射部,向形成于上述光罩与上述薄层之间的接着剂层照射激光束;控制部,控制上述激光束的波长、波形及能量密度,以便借由照射上述激光束而去除上述接着剂层;以及拍摄部,对照射上述激光束的区域进行监控。 | ||
搜索关键词: | 激光束 接着剂 光罩 照射 接着剂层 薄层 激光照射部 去除装置 波长 去除 移除 监控 拍摄 | ||
【主权项】:
一种接着剂去除装置,其是自光罩上去除将所述光罩与薄层连接着的接着剂的装置,其特征在于所述接着剂去除装置包括:激光照射部,向形成于所述光罩与所述薄层之间的接着剂层照射激光束;控制部,控制所述激光束的波长、波形及能量密度,以便借由照射所述激光束而去除所述接着剂层;以及拍摄部,对照射所述激光束的区域进行监控。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于EO科技股份有限公司,未经EO科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680051025.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:微笑镜
- 下一篇:用于用双重固化树脂的增材制造的双重前体树脂系统
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备