[发明专利]用于从气流中沉淀颗粒的设备有效
| 申请号： | 201680042000.5 | 申请日： | 2016-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN107847841B | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 大卫·克雷恩布尔;塞巴斯蒂安·芬斯克;乌维·路德维格 | 申请（专利权）人： | 沃克工业技术有限公司 |
| 主分类号： | B01D45/06 | 分类号： | B01D45/06 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 程华 |
| 地址： | 德国巴*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于从气流中沉淀液体和/或微粒杂质的设备，该设备包括至少一个第一引导元件和至少一个第二引导元件，有可能借助于所述第一引导元件对该气流施加至少一个第一方向变化并借助于该第二引导元件对该气流上施加至少一个第二方向变化，该流体流沿着该第一引导元件和该第二引导元件以基本上层流的方式附加地流动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 气流 沉淀 颗粒 设备 | ||
【主权项】：
用于从流体流(F，F’)中沉淀液体和/或微粒杂质的设备(1，1’)，该设备包括至少一个第一引导元件(3，3’)和至少一个第二引导元件(7，7’)，有可能借助于该第一引导元件(3，3’)对该流体流(F，F’)施加至少一个第一方向变化并借助于该第二引导元件(11，11’)对该流体流(F，F’)施加至少一个第二方向变化，其特征在于，该流体流(F，F’)通常沿着该第一引导元件(3，3’)和该第二引导元件(11，11’)以层流方式流动。
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