[发明专利]用于从气流中沉淀颗粒的设备

权利要求书

1.用于从流体流(F，F’)中沉淀液体和/或微粒杂质的设备(1，1’)，该设备包括至少一个第一引导元件(3，3’)和至少一个第二引导元件(11，11’)，借助于该第一引导元件(3，3’)对该流体流(F，F’)施加至少一个第一方向变化并借助于该第二引导元件(11，11’)对该流体流(F，F’)施加至少一个第二方向变化，其特征在于，该流体流(F，F’)沿着该第一引导元件(3，3’)和该第二引导元件(11，11’)以层流方式流动；以及该设备包括至少ー个支撑框架(9，9’)，其中该第一引导元件(3，3’)和/或该第二引导元件(11，11’)至少间接地支撑在该支撑框架(9，9’)上，使得该第一引导元件(3，3’)和/或该第二引导元件抵靠由至少ー个复位设备(5，5’)建立的至少ー个复位力，相对于该支撑框架(9，9’)可移动地受到支撑。

2.根据权利要求1的设备，其特征在于，至少一个第三引导元件，该流体流在离开该第一引导元件之后进入，借助于该第三引导元件对该流体流(F，F’)施加至少一个第三方向变化，并且该流体流(F，F’)沿着该第三引导元件大体上以层流方式流动。

3.根据权利要求2的设备，其特征在于，包括多个第三引导元件。

4.根据权利要求3的设备，其特征在于，层流方式流动借助于各个第三引导元件施加与前一个第三引导元件相比的方向变化。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，该流体流(F，F’)沿着第一方向(R₁，R₁’)进入该设备(1，1’)，其中该第一方向变化导致该流体流(F，F’)大体上在第二方向(R₂，R₂’)上从该第一引导元件(3，3’)中出来；其中该第二方向变化导致该流体流(F，F’)大体上在第三方向(R₃，R₃’)上从该第二引导元件(11，11’)中出来；和/或该第三方向变化导致该流体流(F，F’)大体上在第四方向上从该第三引导元件中出来。

6.根据权利要求5的设备，其特征在于，流体流(F，F’)在第四方向上从该第三引导元件中出来包括：在第一第四方向上从至少一个第一第三引导元件中出来并且在第二第四方向上从至少一个第二第三引导元件中出来。

7.根据权利要求5的设备，其特征在于，该第一方向(R₁，R₁’)和该第二方向(R₂，R₂’)，该第二方向(R₂，R₂’)和该第三方向；和/或第一第三方向和第二第三方向相对于彼此以90°和180°之间的角度延伸；和/或该流体流(F，F’)沿着出口方向从该设备(1，1’)中出来。

8.根据权利要求7的设备，其特征在于，该第一方向(R₁，R₁’)和该第二方向(R₂，R₂’)，该第二方向(R₂，R₂’)和该第三方向；和/或该第一第三方向和该第二第三方向相对于彼此反向地平行延伸。

9.根据权利要求7的设备，其特征在于，该流体流(F，F’)沿着该第三方向(R₃，R₃’)、第四方向和/或第二第四方向从该设备(1，1’)中出来。

10.根据权利要求7的设备，其特征在于，其中该出口方向平行于该第一方向(R₁，R₁’)。

11.根据权利要求2-4中任一项的设备，其特征在于，在该第一方向变化期间，在该第二方向变化期间和/或在该第三方向变化期间，在该流体流(F，F’)中引起旋转、涡旋或自旋运动。