[发明专利]利用红外分光法的含氟聚合物的分析有效
| 申请号： | 201680035087.3 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN108283007B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 高桥可奈子;山本育男;长谷川健;下赤卓史 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/3563 | 分类号： | G01N21/3563;G01N21/552 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;狄茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开一种对含有含氟表面处理剂的物品进行分析的方法，该分析方法中，通过使用傅里叶变换红外分光计(FT‑IR)的红外全反射衰减法(IR‑ATR法)求出含氟表面处理剂所具有的氟代烷基的碳原子数，其中，含氟表面处理剂含有含氟聚合物作为有效成分，含氟聚合物具有源自式：CH |
||
| 搜索关键词： | 利用 红外 分光 聚合物 分析 | ||
【主权项】：
1.一种对含有含氟表面处理剂的物品进行分析的方法，所述分析方法的特征在于：通过使用傅里叶变换红外分光计(FT‑IR)的红外全反射衰减法(IR‑ATR法)求出含氟表面处理剂所具有的氟代烷基的碳原子数，含氟表面处理剂含有含氟聚合物作为有效成分，含氟聚合物具有源自下式所示的含氟单体的重复单元，式：CH2＝C(－X)－C(＝O)－Y－Z－Rf式中，X为氢原子、一价的有机基团或卤素原子，Y为－O－或－NH－，Z为直接键合或二价的有机基团，Rf为碳原子数1～20的氟代烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大金工业株式会社，未经大金工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680035087.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
