[实用新型]一种光阻涂布用的硅片定位装置有效
| 申请号： | 201620817751.7 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN205984929U | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 汪良恩 | 申请（专利权）人： | 安徽安芯电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 章登亚 |
| 地址： | 247000 安徽省池州市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种光阻涂布用的硅片定位装置，属于半导体晶圆制造领域。针对传统的将晶圆硅片放在涂布旋转机的吸头上进行光阻涂布时，人工摆放不易定位，容易造成偏心的问题，本实用新型包括涂布吸头和托板，所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘，且托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直距离与硅片外径相同，所述托板数量至少为三件，且均匀布置。本实用新型方便人工对硅片摆放的快速定位，提高了光阻涂布的外观质量和工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光阻涂布用 硅片 定位 装置 | ||
【主权项】：
一种光阻涂布用的硅片定位装置，其特征在于：包括涂布吸头和托板，所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘，且托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直距离与硅片外径相同，所述托板数量至少为三件，且均匀布置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
