[实用新型]一种用于微腔金属填充的喷嘴片结构及设备有效

专利信息
申请号: 201620614255.1 申请日: 2016-06-21
公开(公告)号: CN205723491U 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 顾杰斌;刘冰杰;李昕欣 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L21/28;H01L21/67
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 刘星
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种用于微腔金属填充的喷嘴片结构及设备,所述喷嘴片结构包括:喷嘴片面板;贯穿所述面板上表面及下表面的通孔;与所述通孔连通的液态金属引流槽;所述引流槽由所述面板上表面开口,并往所述面板下表面方向延伸,但未贯穿所述面板下表面;至少两条设于所述面板边缘且两端分别与所述引流槽、所述面板侧面连通的通气槽;所述通气槽由所述面板上表面开口,并往所述面板下表面方向延伸,但未贯穿所述面板下表面。本实用新型的喷嘴片结构可以针对不同结构和形状的微腔进行不同种类金属单质或金属合金的有效、快速填充,且喷嘴通孔位置不需要与填充片上待填充的微腔位置一一对应,从而大大提高了喷嘴片结构的普适性。
搜索关键词: 一种 用于 金属 填充 喷嘴 结构 设备
【主权项】:
一种用于微腔金属填充的喷嘴片结构,其特征在于,所述喷嘴片结构包括:喷嘴片面板;所述面板包括上表面和下表面;贯穿所述面板上表面及下表面的通孔;与所述通孔连通的液态金属引流槽;所述引流槽由所述面板上表面开口,并往所述面板下表面方向延伸,但未贯穿所述面板下表面;至少两条设于所述面板边缘且两端分别与所述引流槽、所述面板侧面连通的通气槽;所述通气槽由所述面板上表面开口,并往所述面板下表面方向延伸,但未贯穿所述面板下表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620614255.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top