[实用新型]一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置有效

专利信息
申请号: 201620109029.8 申请日: 2016-02-03
公开(公告)号: CN205539930U 公开(公告)日: 2016-08-31
发明(设计)人: 沈显勇 申请(专利权)人: 合肥亚歌半导体科技合伙企业(有限合伙)
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 合肥天明专利事务所 34115 代理人: 张祥骞;奚华保
地址: 230088 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型涉及一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置,与现有技术相比解决了吸盘定位销钉更换困难、定位衬底尺寸兼容性差的缺陷。本实用新型的滑槽A上安装有定位块组件A,滑槽B上均安装有定位块组件B,定位块组件A与定位块组件B两者结构相同;所述的定位块组件A包括定位滑块和紧定螺钉,定位滑块活动安装在滑槽A上且与滑槽A构成滑动配合,紧定螺钉安装在定位滑块上,定位滑块的上表面高于吸盘组件的上表面。本实用新型能够适用于所有标准尺寸衬底及非标衬底的吸盘定位,且定位调节更加简便。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 无掩膜直写 曝光 设备 吸盘 定位 装置
【主权项】:
一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置,包括吸盘组件(1),其特征在于:所述的吸盘组件(1)上设有滑槽A(5)和滑槽B(6),滑槽A(5)和滑槽B(6)均位于吸盘组件(1)的半径上,滑槽A(5)至吸盘组件(1)圆心的延长线与滑槽B(6)至吸盘组件(1)圆心的延长线所形成的夹角为90度,滑槽A(5)上安装有定位块组件A,滑槽B(6)上均安装有定位块组件B,定位块组件A与定位块组件B两者结构相同;所述的定位块组件A包括定位滑块(2)和紧定螺钉(3),定位滑块(2)活动安装在滑槽A(5)上且与滑槽A(5)构成滑动配合,紧定螺钉(3)安装在定位滑块(2)上,定位滑块(2)的上表面高于吸盘组件(1)的上表面。
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