[发明专利]一种STT-MRAM存储单元有效

专利信息
申请号: 201611201099.7 申请日: 2016-12-22
公开(公告)号: CN106783862B 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 王真;何岳巍;胡少杰;闵泰 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陆万寿
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开一种STT‑MRAM存储单元,包括晶体管和MTJ单元;晶体管建立在基底上,晶体管的漏极与MTJ单元通过金属线达到漏接触;MTJ单元包括内电极和包裹在内电极外周的种子层、铁磁性钉扎层、非磁性势垒层、铁磁性自由层和外电极;金属线与内电极连接;种子层、铁磁性钉扎层、非磁性势垒层、铁磁性自由层和外电极均与基底所在平面不平行;种子层、铁磁性钉扎层、非磁性势垒层、铁磁性自由层和外电极与金属线间隔设置。本发明中MTJ单元的设置形式将热稳定系数Δ随原本的平面结构尺寸的平方变化关系减弱为线性变化,可以用高度补偿,有利于MTJ小型化。本发明可有效的利用空间,保证良好的热稳定性,提高存储密度,提供多种存储模式,对20nm技术节点以下的存储器具有应用前景。
搜索关键词: 一种 stt mram 存储 单元
【主权项】:
一种STT‑MRAM存储单元,其特征在于,包括晶体管(101)和MTJ单元(200);晶体管(101)建立在基底(100)上,晶体管(101)的漏极(103b)与MTJ单元(200)通过金属线(106)达到漏接触;MTJ单元(200)包括内电极(204)和包裹在内电极(204)外周的种子层(212)、铁磁性钉扎层(203)、非磁性势垒层(202)、铁磁性自由层(201)和外电极(205);金属线(106)与内电极(204)连接;种子层(212)、铁磁性钉扎层(203)、非磁性势垒层(202)、铁磁性自由层(201)和外电极(205)均与基底(100)所在平面不平行;种子层(212)、铁磁性钉扎层(203)、非磁性势垒层(202)、铁磁性自由层(201)和外电极(205)与金属线(106)间隔设置。
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