[发明专利]利用半导体材料钨酸镁催化超声降解有机染料金橙Ⅱ的方法在审

专利信息
申请号: 201611189676.5 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106673170A 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 何玲玲;王志新;高峰伟;刘贤平;王新 申请(专利权)人: 沈阳化工大学
主分类号: C02F1/72 分类号: C02F1/72;C02F1/36;C02F101/30
代理公司: 沈阳技联专利代理有限公司21205 代理人: 张志刚
地址: 110142 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 利用半导体材料钨酸镁催化超声降解有机染料金橙Ⅱ的方法,涉及一种降解有机染料的方法,所述方法包括将纳米钨酸盐半导体材料MgWO4和有机染料金橙Ⅱ混合放入容器中,在避光的条件下搅拌;将装有混合液的容器放入超声装置中;MgWO4的加入量为1g·L‑1;避光磁力搅拌0‑180min;超声时间为1‑24h;超声温度为10‑50℃。本发明通过降解金橙Ⅱ来测定MgWO4的催化活性,用紫外光谱测定金橙Ⅱ的吸光度的变化从而判断MgWO4的催化活性,配置造价低、制备工艺简单、能耗少、有机污染物降解率高、降解过程中不产生二次污染且催化剂可重复利用,适于大规模生产,在处理有机染料废水方面有广阔的应用前景。
搜索关键词: 利用 半导体材料 钨酸镁 催化 超声 降解 有机 染料 方法
【主权项】:
利用半导体材料钨酸镁催化超声降解有机染料金橙Ⅱ的方法,其特征在于,所述方法包括将纳米钨酸盐半导体材料MgWO4和有机染料金橙Ⅱ混合放入容器中,在避光的条件下搅拌;将装有混合液的容器放入超声装置中;MgWO4的加入量为1g·L‑ 1;避光磁力搅拌0‑180min;超声时间为1‑24h;超声温度为10‑50℃。
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