[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、产酸剂成分以及化合物在审
| 申请号： | 201611184485.X | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN106980232A | 公开（公告）日： | 2017-07-25 |
| 发明（设计）人： | 长峰高志;远藤浩太朗;生川智启 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;C07D313/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的基材成分(A)、和通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，产酸剂成分(B)包含通式(b1)所示的化合物(B1)。通式(b1)中，Rb1表示包含极性基团的碳原子数7～30的带桥键的脂环式基团。Yb1表示可具有取代基(其中，排除选自芳香族烃基和乙烯基的取代基)的碳原子数9以上的直链状烃基。Vb1表示氟代亚烷基。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1] | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 产酸剂 成分 以及 化合物 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂组合物，其特征在于，是通过曝光而产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物含有对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的基材成分(A)、和通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，所述产酸剂成分(B)包含下述通式(b1)所示的化合物(B1)，式(b1)中，Rb1表示包含极性基团的碳原子数7～30的带桥键的脂环式基团，Yb1表示具有或不具有取代基的碳原子数9以上的直链状烃基，其中该取代基排除选自芳香族烃基和乙烯基的取代基，Vb1表示氟代亚烷基，m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。
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