[发明专利]一种测量足部尺寸的方法与系统有效
| 申请号： | 201611179259.2 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN106767433B | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 刘清珺;刘海伦;季红 | 申请（专利权）人： | 北京市计算中心 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 汤财宝 |
| 地址： | 100094 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测量足部尺寸的方法与系统。所述方法包括：S1，对所获取的足部图像进行透视畸变纠正；S2，基于纠正后的足部图像提取足印特征集合，利用预先建立的映射关系获取所述足部图像对应的足部尺寸集合。本发明利用统计数据建立三维脚型样本数据库，在脚型特征大数据的支持下，用户仅仅通过智能终端拍照就能够实现满足精度要求的脚型尺寸测量，投资少、简单可靠，操作方便，灵活性强，测量误差小精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 足部图像 足部 测量 脚型 样本数据库 尺寸测量 尺寸集合 畸变纠正 精度要求 三维脚型 特征集合 统计数据 映射关系 预先建立 智能终端 大数据 足印 拍照 透视 纠正 投资 | ||
【主权项】：
1.一种测量足部尺寸的方法，其特征在于，包括：S1，对所获取的足部图像进行透视畸变纠正；S2，基于纠正后的足部图像提取足印特征集合，利用预先建立的映射关系获取所述足部图像对应的足部尺寸集合；所述S2进一步包括：S2.1，基于纠正后的所述足部图像建立足印坐标系，提取足印特征集合B；S2.2，利用预先建立的射关系获取足部尺寸集合A，所述预先建立的映射关系为：A＝MB其中，A为足部尺寸集合，B为足印特征集合，M为映射矩阵；所述S2.1中所述足印特征集合B包括足印的长度特征集合和宽度特征集合,所述长度特征集合包括脚趾端点、拇趾外突点部位、小趾外突点部位、第一跖趾部位、第五跖趾部位、腰窝部位和踵心部位；所述宽度特征集合包括足印整体宽度、足弓处宽度、拇趾里宽、小趾外宽、第一跖趾里宽、第五跖趾外宽、腰窝外宽和踵心全宽。
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