[发明专利]一种测量足部尺寸的方法与系统

权利要求书

1.一种测量足部尺寸的方法，其特征在于，包括：

S1，对所获取的足部图像进行透视畸变纠正；

S2，基于纠正后的足部图像提取足印特征集合，利用预先建立的映射关系获取所述足部图像对应的足部尺寸集合；

所述S2进一步包括：

S2.1，基于纠正后的所述足部图像建立足印坐标系，提取足印特征集合B；

S2.2，利用预先建立的射关系获取足部尺寸集合A，所述预先建立的映射关系为：

A＝MB

其中，A为足部尺寸集合，B为足印特征集合，M为映射矩阵；

所述S2.1中所述足印特征集合B包括足印的长度特征集合和宽度特征集合,

所述长度特征集合包括脚趾端点、拇趾外突点部位、小趾外突点部位、第一跖趾部位、第五跖趾部位、腰窝部位和踵心部位；

所述宽度特征集合包括足印整体宽度、足弓处宽度、拇趾里宽、小趾外宽、第一跖趾里宽、第五跖趾外宽、腰窝外宽和踵心全宽。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述S1进一步包括：

S1.1，获取特定参照物背景下的足部图像；

S1.2，利用独立畸变参数对所述足部图像进行透视畸变纠正。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述S1.1进一步包括：

S1.1.1，选取具有干净背景和固定尺寸的面型参照物为所述特定参照物；

S1.1.2，在所述特定参照物背景上留下足印轮廓；

S1.1.3，采集所述足印轮廓生成所述足部图像。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述S1.2进一步包括：

S1.2.1，根据所述足部图像的所述特定参照物的四个二维顶点的对应位置关系获得八个独立的畸变参数；

S1.2.2，利用所述八个独立的畸变参数构建畸变矩阵；

S1.2.3，利用所述畸变矩阵对所述足部图像中的位置点进行纠正变换，获取纠正后的足部图像。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述畸变矩阵为：

所述八个独立的畸变参数为所述畸变矩阵中的任意八个元素。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述S2.2中所述映射矩阵M通过训练数据得到，包括：

建立二维及三维的足部尺寸样本库；

基于所述足部尺寸样本库，利用线性回归方法获取所述映射矩阵M，满足M＝argmin|A-MB|。

7.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述S2.2中所述足部尺寸集合A包括足部的长度尺寸集合、宽度尺寸集合和围度尺寸集合，

所述长度尺寸集合包括脚趾端点、拇趾外突点部位、小趾外突点部位、第一跖趾部位、第五跖趾部位、腰窝部位和踵心部位；

所述宽度尺寸集合包括基本宽度、拇趾里宽、小趾外宽、第一跖趾里宽、第五跖趾外宽、腰窝外宽和踵心全宽；

所述围度尺寸集合包括砣围和跗围。

8.一种测量足部尺寸的系统，其特征在于，包括畸变纠正模块和尺寸映射模块，

畸变纠正模块，用于对所获取的足部图像进行透视畸变纠正；

尺寸映射模块，用于基于纠正后的足部图像提取足印特征集合，利用预先建立的映射关系获取所述足部图像对应的足部尺寸集合；

所述基于纠正后的足部图像提取足印特征集合，利用预先建立的映射关系获取所述足部图像对应的足部尺寸集合，进一步包括：

基于纠正后的所述足部图像建立足印坐标系，提取足印特征集合B；

利用预先建立的射关系获取足部尺寸集合A，所述预先建立的映射关系为：

A＝MB

其中，A为足部尺寸集合，B为足印特征集合，M为映射矩阵；

所述足印特征集合B包括足印的长度特征集合和宽度特征集合,

所述长度特征集合包括脚趾端点、拇趾外突点部位、小趾外突点部位、第一跖趾部位、第五跖趾部位、腰窝部位和踵心部位；

所述宽度特征集合包括足印整体宽度、足弓处宽度、拇趾里宽、小趾外宽、第一跖趾里宽、第五跖趾外宽、腰窝外宽和踵心全宽。