[发明专利]校正装置和校正方法有效
| 申请号： | 201611052775.9 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN107030570B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 谷泽昭寻;小林贤一 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B21/00 | 分类号： | B24B21/00;B24B21/18;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种校正装置，该校正装置能够使抛光垫片的按压力通过简单方法进行调节，而无需移除其上可放置有基板的台阶。本发明的一个实施例提供一种针对用于抛光基板的斜面部分的斜面抛光系统的校正装置，包含：载荷测量设备，其能够测量来自斜面抛光系统的抛光垫片的按压载荷；和底板，在其上能够放置有载荷测量设备，其中，底板能够固定在能够在其上放置基板的真空吸附台上。 | ||
| 搜索关键词： | 校正装置 载荷测量设备 底板 抛光垫片 抛光系统 基板 按压 抛光基板 真空吸附 按压力 移除 校正 测量 | ||
【主权项】：
1.一种用在斜面抛光装置中的校正装置，其特征在于，所述斜面抛光装置被构造成抛光放置于真空吸附台上的基板的斜面部分，所述校正装置包含：载荷测量设备，所述载荷测量设备被构造成测量来自所述斜面抛光装置的抛光垫片的按压载荷；和底板，所述底板被构造成能够固定在所述真空吸附台上，所述真空吸附台被构造成保持放置于其上的所述基板，所述底板上放置有所述载荷测量设备。
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