[发明专利]校正装置和校正方法有效
| 申请号： | 201611052775.9 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN107030570B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 谷泽昭寻;小林贤一 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B21/00 | 分类号： | B24B21/00;B24B21/18;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 校正装置 载荷测量设备 底板 抛光垫片 抛光系统 基板 按压 抛光基板 真空吸附 按压力 移除 校正 测量 | ||
1.一种用在斜面抛光装置中的校正装置，其特征在于，所述斜面抛光装置被构造成抛光放置于真空吸附台上的基板的斜面部分，所述校正装置包含：
载荷测量设备，所述载荷测量设备被构造成测量来自所述斜面抛光装置的抛光垫片的按压载荷；和
底板，所述底板被构造成能够固定在所述真空吸附台上，所述真空吸附台被构造成保持放置于其上的所述基板，所述底板上放置有所述载荷测量设备。
2.如权利要求1所述的校正装置，其特征在于，其中，所述载荷测量设备包括测力计，所述测力计具有测量轴。
3.如权利要求2所述的校正装置，其特征在于，其中，所述载荷测量设备包括载荷支承构件，所述载荷支承构件被构造成固定至所述测力计的所述测量轴，所述载荷支承构件包括载荷支承表面，所述载荷支承表面被构造成承受所述按压载荷。
4.如权利要求3所述的校正装置，其特征在于，进一步包含间隔件，所述间隔件被构造成调节所述载荷支承表面相对于所述真空吸附台的位置。
5.如权利要求3所述的校正装置，其特征在于，其中，所述载荷支承构件包括支架。
6.如权利要求5所述的校正装置，其特征在于，其中，所述载荷支承构件包括垫片，所述垫片由树脂形成并适于固定至所述支架。
7.如权利要求1所述的校正装置，其特征在于，其中，所述载荷测量设备包括安装板，所述安装板被构造成固定至所述底板。
8.如权利要求7所述的校正装置，其特征在于，其中，所述安装板包括调节螺钉，所述调节螺钉被构造成调节所述安装板相对于所述底板的位置。
9.一种斜面抛光装置，所述斜面抛光装置被构造成抛光放置于真空吸附台上的基板的斜面部分，其特征在于，所述斜面抛光装置包含：
真空吸附台，所述真空吸附台被构造成保持放置于其上的基板；
多个抛光头，所述多个抛光头沿着所述真空吸附台的外周布置，所述多个抛光头中的每个抛光头都包括抛光垫片，所述抛光垫片适于朝向所述基板的斜面部分被按压；和
校正装置，所述校正装置包括：
载荷测量设备，所述载荷测量设备被构造成测量来自所述斜面抛光装置的抛光垫片的按压载荷；和
底板，所述底板被构造成能够固定在所述真空吸附台上，所述真空吸附台被构造成保持放置于其上的所述基板，所述底板上放置有所述载荷测量设备。
10.如权利要求9所述的斜面抛光装置，其特征在于，其中，所述载荷测量设备包括测力计，所述测力计具有测量轴。
11.如权利要求10所述的斜面抛光装置，其特征在于，其中，所述载荷测量设备包括载荷支承构件，所述载荷支承构件被构造成固定至所述测力计的所述测量轴，所述载荷支承构件包括载荷支承表面，所述载荷支承表面被构造成承受所述按压载荷。
12.如权利要求11所述的斜面抛光装置，其特征在于，其中，所述校正装置进一步包含间隔件，所述间隔件被构造成调节所述载荷支承表面相对于所述真空吸附台的位置。
13.如权利要求11所述的斜面抛光装置，其特征在于，其中，所述载荷支承构件包括支架。
14.如权利要求13所述的斜面抛光装置，其特征在于，其中，所述载荷支承构件包括垫片，所述垫片由树脂形成并适于固定至所述支架。
15.如权利要求9所述的斜面抛光装置，其特征在于，其中，所述载荷测量设备包括安装板，所述安装板被构造成固定至所述底板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社荏原制作所，未经株式会社荏原制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611052775.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种方便更换叶片的水泵
- 下一篇：直通式金属锶的生产工艺
