[发明专利]校正装置和校正方法有效
申请号: | 201611052775.9 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN107030570B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 谷泽昭寻;小林贤一 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B21/00 | 分类号: | B24B21/00;B24B21/18;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 校正装置 载荷测量设备 底板 抛光垫片 抛光系统 基板 按压 抛光基板 真空吸附 按压力 移除 校正 测量 | ||
本发明的目的在于提供一种校正装置,该校正装置能够使抛光垫片的按压力通过简单方法进行调节,而无需移除其上可放置有基板的台阶。本发明的一个实施例提供一种针对用于抛光基板的斜面部分的斜面抛光系统的校正装置,包含:载荷测量设备,其能够测量来自斜面抛光系统的抛光垫片的按压载荷;和底板,在其上能够放置有载荷测量设备,其中,底板能够固定在能够在其上放置基板的真空吸附台上。
技术领域
本发明涉及一种校正装置和一种校正方法。具体地,本发明涉及一种针对用于抛光基板的斜面部分的斜面抛光系统的校正装置和方法。
背景技术
根据用于抛光基板(例如晶圆)的斜面部分的惯用斜面抛光系统,称作抛光或按压垫片的垫片通过具有适当载荷的抛光带被按压抵靠基板的斜面部分。因而,上述系统控制基板的抛光量和基板的形状。抛光垫片通过例如使用电动气动调节器的气动控制进行控制。电动气动调节器用于将供应至气缸的气压调节为所需压力,从而控制抛光垫片的按压力,因而控制将抛光带的抛光表面按压抵靠基板的压力(专利文献1)。
因而,如上所述,斜面抛光系统使用电动气动调节器,用于对气缸中的气压进行精确控制,从而维持抛光性能。因此,需要获得气缸中的气压与在抛光垫片的端部处的按压载荷之间的准确关联性。作为实现此需要的方法,在控制的气压条件下,校正来自抛光垫片的载荷现在通过使用测力计实际测量按压载荷而执行。
引用列表
专利文献
专利文献1:日本专利申请出版物(Kokai)No.2012-231191
发明内容
根据上述校正作业,通常,在其上放置有基板的台阶从基板保持旋转机构移除。台阶被替换为配备有测力计的附接夹具。在附接夹具安装在旋转机构上之后,相对于抛光垫片的按压力执行一系列调节操作。然而,移除台阶和附接附接夹具的操作非常耗时。进一步,为了执行可靠的校正作业,附接夹具需要安装成使测力计可以准确地定位。此外,在重新附接台阶时,需要再次调节台阶,包括调节台阶的偏心度和水平度。这不仅使校正作业复杂,而且造成停机时间,导致每单位时间所处理的基板的数量减少。
本发明的一个实施例提供一种校正装置,该校正装置能使抛光垫片的按压力通过简单方法进行调节,而无需移除其上可放置基板的台阶。进一步,本发明的一个实施例提供一种校正方法,该校正方法使得可以通过简单方法调节抛光垫片的按压力,而无需移除其上可放置基板的台阶。
根据本发明的一个实施例,提供一种用在斜面抛光装置中的校正装置,该斜面抛光装置被构造成抛光基板的斜面部分,该校正装置包含:载荷测量设备,该载荷测量设备被构造成测量来自斜面抛光装置的抛光垫片的按压载荷;和底板,该底板被构造成固定在真空吸附台上,该真空吸附台被构造成保持放置于其上的基板,底板上放置有载荷测量设备。利用以上布置,校正装置可以通过使用现有的真空吸附台的吸附机构,而安装在用于旋转基板的机构上。这消除了移除在惯用技术中所需要的真空吸附台的必要性。因为相较于惯用校正作业,安装校正装置可以容易地执行,所以在安装校正装置期间发生人为错误的风险可以降低。进一步,不同于惯用技术,在校正之后没有伴随安装真空吸附台的人为错误的可能性。进一步,相较于惯用的校正作业,本发明减少了用于校正的操作步骤的数量,因此抑制了停机时间的出现和每单位时间所处理的基板的数量的减少。此外,容易通过校正作业执行装置状况的定期检查,这稳定了斜面抛光装置的装置状况。
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